光刻胶台阶图形制作方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201711323311.1

申请日：

2017-12-12

公开(公告)号：

CN108121156A

公开(公告)日：

2018-06-05

发明(设计)人：

不公告发明人

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市宝安区福永街道和平社区骏丰工业区A3栋一楼

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

深圳市兰锋知识产权代理事务所(普通合伙) 44419

代理人：

曹明兰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20171212
2021-08-10	发明专利申请公布后的撤回	发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):G03F 7/00 申请公布日:20180605
2018-06-05	公开	公开

共 50 条

[1]

正性光刻胶的制作方法 [P].

林广德 .

中国专利 :CN1673864A ,2005-09-28

[2]

光刻胶薄膜的制作方法 [P].

赖宝玲 .

中国专利 :CN103293859A ,2013-09-11

[3]

光刻胶掩模及其制作方法 [P].

侯德胜 ;

冯伯儒 ;

张锦 .

中国专利 :CN1506759A ,2004-06-23

[4]

光刻胶和光刻胶图形的优化方法 [P].

林益世 ;

黄宜斌 .

中国专利 :CN102262357A ,2011-11-30

[5]

一种光刻胶及光刻胶图案的制作方法 [P].

刘明 ;

左岳平 ;

孟秋华 ;

王纯阳 ;

方飞 .

中国专利 :CN109270791A ,2019-01-25

[6]

光刻版图、光刻胶图形及测量光刻胶图形曝光误差的方法 [P].

岳力挽 ;

赵新民 ;

周孟兴 ;

王彩虹 .

中国专利 :CN102809895B ,2012-12-05

[7]

基于正性光刻胶的镍阳模具制作方法 [P].

郭哲 ;

刘祝凯 ;

宋娇阳 ;

许斌 .

中国专利 :CN104597719A ,2015-05-06

[8]

基于双层光刻胶的金属膜图形制备方法 [P].

周钰卿 ;

叶壮壮 ;

蔡凯明 .

中国专利 :CN121115409A ,2025-12-12

[9]

形成光刻胶图形的方法 [P].

权五成 ;

李斗熙 ;

陆迵善 ;

洪兴基 ;

具永谟 .

中国专利 :CN1079548C ,1996-01-24

[10]

形成光刻胶图形的方法 [P].

冈村健司 ;

荒田弘美 ;

井上修一 .

中国专利 :CN1233848A ,1999-11-03

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