测量光刻工艺的关键尺寸摇摆曲线的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910195401.6

申请日：

2009-09-09

公开(公告)号：

CN102023486B

公开(公告)日：

2011-04-20

发明(设计)人：

安辉

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F716

IPC分类号：

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

牛峥;王丽琴

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-05-30	授权	授权
2011-04-20	公开	公开
2011-06-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101077290874 IPC(主分类):G03F 7/16 专利申请号:2009101954016 申请日:20090909
2020-08-28	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/16 申请日:20090909 授权公告日:20120530 终止日期:20190909

共 50 条

[1]

获得光刻工艺关键尺寸摇摆曲线的方法 [P].

詹海娇 ;

高松 ;

胡丹丹 .

中国专利 :CN114077166B ,2024-01-05

[2]

获得光刻工艺关键尺寸摇摆曲线的方法 [P].

詹海娇 ;

高松 ;

胡丹丹 .

中国专利 :CN114077166A ,2022-02-22

[3]

一种提高光刻工艺关键尺寸均一性的光刻方法 [P].

王建 ;

李术林 ;

刘通 ;

魏文浩 ;

刘福知 ;

谢雄才 .

中国专利 :CN114859673A ,2022-08-05

[4]

提高光刻工艺中图形关键尺寸的均匀性的方法 [P].

王雷 .

中国专利 :CN107121895A ,2017-09-01

[5]

测量光刻工艺的参数的方法 [P].

H·A·J·克拉默 ;

H·D·波斯 ;

E·J·库普 ;

A·E·A·库伦 ;

H-K·尼恩海斯 ;

A·波洛 ;

廉晋 ;

A·J·登博夫 .

中国专利 :CN113168122A ,2021-07-23

[6]

测量光刻工艺的参数的方法 [P].

H·A·J·克拉默 ;

H·D·波斯 ;

E·J·库普 ;

A·E·A·库伦 ;

H-K·尼恩海斯 ;

A·波洛 ;

廉晋 ;

A·J·登博夫 .

:CN113168122B ,2025-01-10

[7]

光刻工艺的显影方法 [P].

杨光宇 .

中国专利 :CN101393401A ,2009-03-25

[8]

光刻工艺的显影方法 [P].

李燕 ;

曹亮 ;

杨正兵 ;

唐代华 ;

李磊 ;

张华 .

中国专利 :CN103424997B ,2013-12-04

[9]

光刻工艺的显影方法 [P].

黄玮 .

中国专利 :CN102385262A ,2012-03-21

[10]

光刻工艺的返工方法 [P].

刘焕新 .

中国专利 :CN102543683A ,2012-07-04

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