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真空腔室以及半导体处理设备
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202120425342.3
申请日：
2021-02-26
公开(公告)号：
CN214152860U
公开(公告)日：
2021-09-07
发明(设计)人：
万飞华
徐春阳
申请人：
申请人地址：
201210 上海市浦东新区自由贸易试验区张江路665号3层
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286
代理人：
黄海霞
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-09-07 | 授权 | 授权 |