用于蚀刻均匀性控制的可变深度边缘环

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710076027.2

申请日：

2017-02-13

公开(公告)号：

CN107086168B

公开(公告)日：

2017-08-22

发明(设计)人：

艾夫林·安格洛夫克里斯蒂安·赛拉迪迪恩·拉森布莱恩·西弗森

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

李献忠;邱晓敏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-02-02	授权	授权
2017-08-22	公开	公开
2019-03-08	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20170213

共 50 条

[1]

利用可移动边缘环和气体注入调整控制晶片上CD均匀性 [P].

张依婷 ;

斯拉瓦纳普利安·斯利拉曼 ;

亚历克斯·帕特森 .

中国专利 :CN107768275A ,2018-03-06

[2]

用于硅电极部件蚀刻速度和蚀刻均匀性恢复的方法 [P].

黄拓川 ;

任大星 ;

石洪 ;

凯瑟琳·周 ;

晏淳 ;

恩瑞库·麦格尼 ;

严必明 ;

杰罗姆·胡巴塞克 ;

林大正 ;

宋东永 .

中国专利 :CN101137461A ,2008-03-05

[3]

可改善蚀刻均匀性的PCB板蚀刻机 [P].

钟红生 ;

李伟章 ;

曾巨湘 ;

张由春 .

中国专利 :CN204761845U ,2015-11-11

[4]

一种提高蚀刻均匀性的玻璃蚀刻机 [P].

金万龙 .

中国专利 :CN221894884U ,2024-10-25

[5]

控制蚀刻深度的装置和方法 [P].

T·A·坎普 ;

A·J·米勒 ;

V·C·维努戈帕尔 .

中国专利 :CN100449706C ,2005-11-23

[6]

一种辅助验证蚀刻线蚀刻均匀性的模具 [P].

蔡奕康 ;

夏润鑫 ;

李华 ;

马锦贤 ;

吴炜 ;

雷森 .

中国专利 :CN218121018U ,2022-12-23

[7]

提高半导体沟渠蚀刻均匀性的方法 [P].

那炜 .

中国专利 :CN1728344A ,2006-02-01

[8]

线路板的蚀刻均匀性检测方法 [P].

李继林 ;

黄永建 ;

叶志荣 ;

王双新 ;

谢毅娟 .

中国专利 :CN120427693A ,2025-08-05

[9]

改善等离子体蚀刻均匀性的方法和设备 [P].

鲁塞尔·韦斯特曼 ;

大卫·约翰逊 .

中国专利 :CN101048842A ,2007-10-03

[10]

使用磁性元件的蚀刻和等离子体均匀性控制 [P].

斯科特·布里格斯 ;

普拉蒂克·曼克迪 ;

约翰·P·霍兰德 ;

安德鲁·D·贝利三世 .

中国专利 :CN115039198A ,2022-09-09

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