板式等离子体气相沉积上下镀膜一体设备的石墨载板结构

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201720515809.7
申请日
2017-05-10
公开(公告)号
CN206820009U
公开(公告)日
2017-12-29
发明(设计)人
李慧 陈克 徐建 樊华 彭彪 俞超 徐长坡 徐强
申请人
申请人地址
214203 江苏省无锡市宜兴市经济开发区文庄路20号
IPC主分类号
H01L3118
IPC分类号
C23C1654
代理机构
南京天华专利代理有限责任公司 32218
代理人
刘畅;徐冬涛
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体气相沉积镀膜设备 [P]. 
黄章华 .
中国专利 :CN216192696U ,2022-04-05
[2]
板式PECVD上下镀膜一体设备的石墨载板结构 [P]. 
李慧 ;
陈克 ;
徐建 ;
樊华 ;
彭彪 ;
俞超 ;
徐长坡 ;
徐强 .
中国专利 :CN206814841U ,2017-12-29
[3]
等离子体气相沉积设备 [P]. 
张斌 ;
李王俊 .
中国专利 :CN213680874U ,2021-07-13
[4]
等离子体气相沉积设备 [P]. 
刘祥 ;
周东平 ;
张晓 .
中国专利 :CN119640240B ,2025-05-13
[5]
等离子体气相沉积设备 [P]. 
刘祥 ;
周东平 ;
张晓 .
中国专利 :CN119640240A ,2025-03-18
[6]
等离子体气相沉积设备 [P]. 
王凤明 ;
李王俊 ;
陈晨 .
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[7]
等离子体气相沉积用工件固定治具及等离子体气相沉积设备 [P]. 
柏洋 ;
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[8]
等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统 [P]. 
杨普磊 ;
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[9]
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袁园 ;
林宗贤 .
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[10]
等离子体气相沉积方法 [P]. 
聂佳相 ;
康芸 ;
杨瑞鹏 .
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