一种降低硅片表面金属的清洗方法

被引：0

申请号：

CN202211081468.9

申请日：

2022-09-01

公开(公告)号：

CN115440575A

公开(公告)日：

2022-12-06

发明(设计)人：

焦芬芬

申请人：

申请人地址：

311201 浙江省杭州市钱塘新区东垦路888号

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

代理机构：

杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 33266

代理人：

沈相权

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-23	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20220901
2022-12-06	公开	公开

共 50 条

[1]

一种降低硅片表面金属的清洗工艺 [P].

张雪 ;

张超仁 ;

曹锦伟 ;

王彦君 ;

孙晨光 .

中国专利 :CN114242563A ,2022-03-25

[2]

一种降低硅片表面颗粒的清洗设备及其清洗方法 [P].

安人龙 .

中国专利 :CN113877875A ,2022-01-04

[3]

一种硅片的清洗方法 [P].

于昊 ;

宫勇 ;

兰育辉 .

中国专利 :CN102114481B ,2011-07-06

[4]

用以改善硅片表面金属离子污染的清洗方法 [P].

韩瑞津 ;

江瑞星 ;

黄振聪 ;

刘文宏 ;

廖勇勤 ;

颜明辉 ;

郭国超 .

中国专利 :CN1881538A ,2006-12-20

[5]

一种硅片清洗剂及硅片表面条带状颗粒分布的清洗方法 [P].

刘佳惠 .

中国专利 :CN119859567A ,2025-04-22

[6]

一种硅片清洗液及硅片清洗方法 [P].

刘长明 ;

金井升 ;

张昕宇 ;

金浩 .

中国专利 :CN108384667A ,2018-08-10

[7]

一种去除晶体硅片金属离子污染的清洗液及其清洗工艺 [P].

上官泉元 ;

解观超 ;

刘金浩 ;

朱广东 ;

潘景伟 .

中国专利 :CN103013711A ,2013-04-03

[8]

一种RIE制绒硅片表面修饰清洗方法 [P].

黄钧林 ;

范维涛 ;

周肃 ;

黄青松 ;

黄惜惜 ;

张鑫 ;

勾宪芳 .

中国专利 :CN105655445A ,2016-06-08

[9]

一种降低硅片表面颗粒数量的清洗方法 [P].

吴礼文 .

中国专利 :CN117832059A ,2024-04-05

[10]

硅片的清洗方法 [P].

雷丰泉 .

中国专利 :CN106653560B ,2017-05-10

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