一种去除晶体硅片金属离子污染的清洗液及其清洗工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310013963.0

申请日：

2013-01-15

公开(公告)号：

CN103013711A

公开(公告)日：

2013-04-03

发明(设计)人：

上官泉元解观超刘金浩朱广东潘景伟

申请人：

申请人地址：

213000 江苏省常州市武进高新技术产业开发区凤翔路7号

IPC主分类号：

C11D732

IPC分类号：

C11D760 B08B308

代理机构：

常州市夏成专利事务所(普通合伙) 32233

代理人：

沈毅

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-05-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101448948760 IPC(主分类):C11D 7/32 专利申请号:2013100139630 申请日:20130115
2013-04-03	公开	公开
2014-07-30	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101703502252 IPC(主分类):C11D 7/32 专利申请号:2013100139630 申请公布日:20130403

共 50 条

[1]

一种晶体硅片预清洗液及其预清洗工艺 [P].

王永丰 ;

朱生宾 ;

刘光 ;

谢忠阳 .

中国专利 :CN102403251A ,2012-04-04

[2]

硅片清洗液及其清洗方法 [P].

李杰 .

中国专利 :CN101503650A ,2009-08-12

[3]

一种硅片清洗液 [P].

聂金根 .

中国专利 :CN102533470A ,2012-07-04

[4]

一种硅片清洗液及硅片清洗方法 [P].

刘长明 ;

金井升 ;

张昕宇 ;

金浩 .

中国专利 :CN108384667A ,2018-08-10

[5]

一种硅片清洗液及使用该清洗液清洗硅片的方法 [P].

肖剑峰 ;

张晨 ;

吴叶军 ;

周体 .

中国专利 :CN101942365A ,2011-01-12

[6]

硅片清洗添加剂、硅片清洗液及其应用 [P].

陈盼盼 ;

于胤 ;

杨勇 ;

章圆圆 .

中国专利 :CN112143590A ,2020-12-29

[7]

一种硅片清洗液 [P].

张小飞 .

中国专利 :CN107987982A ,2018-05-04

[8]

一种硅片清洗液、清洗设备及清洗工艺 [P].

王冬雪 ;

王永青 ;

崔伟 ;

郝勇 ;

侯建明 ;

张宇鹏 ;

刘茂峰 ;

李娜 ;

赵越 .

中国专利 :CN108441353A ,2018-08-24

[9]

一种去除染料的清洗液及其制备方法 [P].

房宽峻 ;

高洪国 ;

林凯 ;

刘尊东 ;

李付杰 ;

宋亚伟 ;

沈允涛 .

中国专利 :CN107099394A ,2017-08-29

[10]

一种金属清洗液 [P].

谭小毛 .

中国专利 :CN103898546A ,2014-07-02

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