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微波等离子体装置及等离子体激发方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910354079.0
申请日
:
2019-04-28
公开(公告)号
:
CN110049614A
公开(公告)日
:
2019-07-23
发明(设计)人
:
刘新宇
王盛凯
汤益丹
白云
申请人
:
申请人地址
:
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
IPC主分类号
:
H05H146
IPC分类号
:
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
张宇园
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-07-23
公开
公开
2021-12-03
授权
授权
2019-08-16
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/46 申请日:20190428
共 50 条
[1]
微波等离子体激发装置
[P].
张志振
论文数:
0
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0
张志振
;
黄昆平
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黄昆平
;
谢宇泽
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谢宇泽
.
中国专利
:CN102595759B
,2012-07-18
[2]
微波等离子体处理装置、等离子体点火方法、等离子体形成方法及等离子体处理方法
[P].
大见忠弘
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大见忠弘
;
平山昌树
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平山昌树
;
须川成利
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须川成利
;
后藤哲也
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后藤哲也
.
中国专利
:CN1945800A
,2007-04-11
[3]
微波等离子体处理装置、等离子体点火方法、等离子体形成方法及等离子体处理方法
[P].
大见忠弘
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大见忠弘
;
平山昌树
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平山昌树
;
须川成利
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须川成利
;
后藤哲也
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后藤哲也
.
中国专利
:CN1502121A
,2004-06-02
[4]
微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法
[P].
中川清和
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机构:
株式会社阿比特技术
株式会社阿比特技术
中川清和
;
宇佐美由久
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机构:
株式会社阿比特技术
株式会社阿比特技术
宇佐美由久
.
日本专利
:CN119586328A
,2025-03-07
[5]
微波等离子体烹饪
[P].
D·塔施
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D·塔施
;
D·J·布罗斯基
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D·J·布罗斯基
;
S·康拉德
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S·康拉德
;
S·库马尔
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S·库马尔
;
D·库马尔
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D·库马尔
.
中国专利
:CN101273666A
,2008-09-24
[6]
微波等离子体装置
[P].
拉尔夫·施皮茨尔
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拉尔夫·施皮茨尔
.
中国专利
:CN111566777A
,2020-08-21
[7]
微波等离子体源和等离子体处理装置
[P].
小松智仁
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小松智仁
;
池田太郎
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池田太郎
;
藤野丰
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0
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藤野丰
.
中国专利
:CN104717820B
,2015-06-17
[8]
微波等离子体源和等离子体处理装置
[P].
河西繁
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河西繁
.
中国专利
:CN101385129B
,2009-03-11
[9]
微波等离子体处理装置及等离子体处理控制方法
[P].
大见忠弘
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大见忠弘
;
平山昌树
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平山昌树
;
须川成利
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须川成利
;
后藤哲也
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后藤哲也
.
中国专利
:CN1242656C
,2004-05-26
[10]
微波等离子体源和等离子体处理装置
[P].
池田太郎
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池田太郎
;
长田勇辉
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0
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长田勇辉
.
中国专利
:CN102458032A
,2012-05-16
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