一种化学机械抛光清洗液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910052659.0

申请日：

2009-06-08

公开(公告)号：

CN101906359A

公开(公告)日：

2010-12-08

发明(设计)人：

徐春

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层

IPC主分类号：

C11D732

IPC分类号：

C11D738 C11D704 C11D104 C11D110

代理机构：

上海翰鸿律师事务所 31246

代理人：

李佳铭

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-12-08	公开	公开
2012-05-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101249109735 IPC(主分类):C11D 7/32 专利申请号:2009100526590 申请日:20090608
2017-12-05	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C11D 7/32 申请公布日:20101208

共 50 条

[1]

一种化学机械抛光清洗液 [P].

徐春 .

中国专利 :CN102477359A ,2012-05-30

[2]

一种化学机械抛光后清洗液 [P].

王溯 ;

马丽 ;

何加华 ;

史筱超 .

中国专利 :CN113186540B ,2021-07-30

[3]

一种化学机械抛光后清洗液 [P].

王溯 ;

马丽 ;

史筱超 ;

何加华 ;

杨跃 .

中国专利 :CN113151838B ,2021-07-23

[4]

一种化学机械抛光后清洗液的应用 [P].

王溯 ;

马丽 ;

史筱超 ;

何加华 ;

马伟 .

中国专利 :CN113186541B ,2021-07-30

[5]

一种化学机械抛光后清洗液的制备方法 [P].

王溯 ;

马丽 ;

史筱超 ;

李健华 .

中国专利 :CN113151837B ,2021-07-23

[6]

一种化学机械抛光清洗液及使用方法 [P].

卞鹏程 ;

崔晓坤 .

中国专利 :CN113881510B ,2024-06-25

[7]

一种化学机械抛光清洗液及使用方法 [P].

卞鹏程 ;

崔晓坤 .

中国专利 :CN113881510A ,2022-01-04

[8]

一种化学机械抛光清洗液及其使用方法 [P].

卞鹏程 ;

卫旻嵩 ;

崔晓坤 ;

王庆伟 .

中国专利 :CN113462491A ,2021-10-01

[9]

半导体硅片化学机械抛光用清洗液 [P].

侯军 .

中国专利 :CN101255386A ,2008-09-03

[10]

一种化学机械抛光后清洗液的应用 [P].

王溯 ;

马丽 ;

史筱超 ;

李健华 ;

王亮 .

中国专利 :CN113201742B ,2021-08-03

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