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用于非晶态硅和形成的薄膜的化学气相沉积法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN01121189.X
申请日：
2001-06-12
公开(公告)号：
CN1238555C
公开(公告)日：
2002-03-13
发明(设计)人：
J·A·泰尔
G·J·科伊
R·P·瓦赫瑟
申请人：
申请人地址：
美国加利福尼亚
IPC主分类号：
C23C1624
IPC分类号：
代理机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人：
卢新华;杨九昌
法律状态：
专利权的终止
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2014-08-06 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101584294421 IPC(主分类):C23C 16/24 专利号:ZL01121189X 申请日:20010612 授权公告日:20060125 终止日期:20130612 |
| 2002-03-13 | 公开 | 公开 |
| 2006-01-25 | 授权 | 授权 |
| 2007-03-28 | 专利申请权、专利权的转移专利权的转移 | 专利申请权、专利权的转移专利权的转移 变更事项:专利权人 变更前权利人:安捷伦科技有限公司 变更后权利人:安华高科技杰纳勒尔IP（新加坡）私人有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:美国加利福尼亚 变更后权利人:新加坡新加坡市 登记生效日:20070216 |
| 2003-04-23 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |