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改善光刻胶耐刻蚀性的方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN00105367.1
申请日：
2000-03-31
公开(公告)号：
CN1268678A
公开(公告)日：
2000-10-04
发明(设计)人：
U·P·施勒德尔
G·昆克尔
A·古特曼
B·斯普勒
申请人：
申请人地址：
美国加利福尼亚州
IPC主分类号：
G03F700
IPC分类号：
H01L21027
代理机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人：
王景朝;钟守期
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2000-10-04 | 公开 | 公开 |
| 2002-01-23 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |
| 2004-12-15 | 发明专利申请公布后的视为撤回 | 发明专利申请公布后的视为撤回 |