一种用于调焦调平系统的测量方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110086825.6
申请日
2011-04-07
公开(公告)号
CN102736430B
公开(公告)日
2012-10-17
发明(设计)人
程雪 李志丹 陈飞彪 潘炼东
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
G03F900
代理机构
北京连和连知识产权代理有限公司 11278
代理人
王光辉
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
用于光刻设备的调焦调平系统及测量方法 [P]. 
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[2]
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[3]
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[5]
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[6]
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