多晶硅薄膜及其形成方法

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申请号
CN202210947274.6
申请日
2022-08-09
公开(公告)号
CN115012032A
公开(公告)日
2022-09-06
发明(设计)人
谢博文 施剑华
申请人
申请人地址
510000 广东省广州市黄埔区中新广州知识城凤凰五路28号
IPC主分类号
C30B2814
IPC分类号
C30B2906 H01L2102
代理机构
上海思捷知识产权代理有限公司 31295
代理人
钟晶
法律状态
公开
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共 50 条
[41]
多晶硅形成装置及其方法 [P]. 
李炳一 ;
朴暻完 ;
许官善 ;
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宋钟镐 .
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[42]
一种多晶硅薄膜制作方法及多晶硅薄膜 [P]. 
任庆荣 ;
李良坚 ;
刘政 .
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[43]
一种多晶硅薄膜的制备方法及多晶硅薄膜 [P]. 
高超飞 ;
葛晶涛 ;
刘旭亮 ;
沈文涛 ;
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[44]
多晶硅薄膜制造方法以及使用该多晶硅薄膜的设备 [P]. 
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朴惠香 .
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[45]
一种多晶硅薄膜的处理方法 [P]. 
孙翔 .
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[46]
多晶硅薄膜的制备方法及多晶硅TFT结构 [P]. 
张良芬 ;
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张猛 .
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[47]
触媒法生产多晶硅和多晶硅薄膜的方法 [P]. 
郑光元 .
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[48]
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秦明 ;
黄庆安 .
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[49]
制造多晶硅薄膜的方法 [P]. 
严枰镕 .
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[50]
多晶硅薄膜的制备方法 [P]. 
张进 .
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