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低介电常数介质层的制作方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200480034184.8
申请日：
2004-09-18
公开(公告)号：
CN1883038A
公开(公告)日：
2006-12-20
发明(设计)人：
H·萨赫德夫
G·梁
J·拉普
M·马特拉一龙戈
N·萨马
S·梅斯纳
申请人：
申请人地址：
荷兰艾恩德霍芬
IPC主分类号：
H01L21312
IPC分类号：
H01L21316
代理机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人：
程天正;王忠忠
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2007-02-14 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |
| 2007-09-12 | 专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 | 专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更事项:申请人 变更前权利人:皇家飞利浦电子股份有限公司 变更后权利人:NXP股份有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:荷兰艾恩德霍芬 变更后权利人:荷兰艾恩德霍芬 登记生效日:20070810 |
| 2011-09-14 | 发明专利申请公布后的驳回 | 发明专利申请公布后的驳回 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101183763878 IPC(主分类):H01L 21/312 专利申请号:2004800341848 公开日:20061220 |
| 2006-12-20 | 公开 | 公开 |