基板研磨系统及方法和基板研磨装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010106480.5

申请日：

2020-02-21

公开(公告)号：

CN111604809A

公开(公告)日：

2020-09-01

发明(设计)人：

铃木佑多高桥太郎小川彰彦降矢滋行八木裕治高田畅行德永晋平

申请人：

申请人地址：

日本国东京都大田区羽田旭町11番1号

IPC主分类号：

B24B3710

IPC分类号：

B24B37005 B24B37013 B24B5702 B24B4910 H01L2167 H01L21321

代理机构：

上海华诚知识产权代理有限公司 31300

代理人：

肖华

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-09-01	公开	公开
2021-12-07	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/10 申请日:20200221

共 50 条

[1]

基板研磨系统及方法和基板研磨装置 [P].

铃木佑多 ;

高桥太郎 ;

小川彰彦 ;

降矢滋行 ;

八木裕治 ;

高田畅行 ;

德永晋平 .

日本专利 :CN111604809B ,2024-05-31

[2]

基板研磨装置和基板研磨方法 [P].

藤本拓矢 ;

高田畅行 .

中国专利 :CN115139214A ,2022-10-04

[3]

基板研磨装置及基板研磨方法 [P].

渡边夕贵 ;

八木圭太 .

中国专利 :CN109290942B ,2019-02-01

[4]

基板研磨装置及基板研磨方法 [P].

西尾干夫 .

中国专利 :CN1494982A ,2004-05-12

[5]

基板研磨方法和基板研磨装置 [P].

椛沢雅志 ;

八木圭太 .

日本专利 :CN120095703A ,2025-06-06

[6]

基板研磨装置、基板研磨方法、研磨装置及研磨方法 [P].

吉田笃史 ;

石井游 ;

中西正行 .

日本专利 :CN119212826A ,2024-12-27

[7]

基板研磨装置及基板研磨方法 [P].

福永明 ;

渡边和英 ;

小畠严贵 ;

辻村学 .

中国专利 :CN110663103A ,2020-01-07

[8]

基板研磨装置及基板研磨方法 [P].

周文涛 .

中国专利 :CN111152095A ,2020-05-15

[9]

研磨装置、研磨系统、基板处理装置以及研磨方法 [P].

铃木佑多 ;

高桥太郎 .

中国专利 :CN109719612A ,2019-05-07

[10]

基板研磨装置 [P].

篠崎弘行 .

中国专利 :CN107877354A ,2018-04-06

← 1 2 3 4 5 →