用来化学机械抛光层间介电层的组合物和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710006190.8

申请日：

2007-01-29

公开(公告)号：

CN101012357A

公开(公告)日：

2007-08-08

发明(设计)人：

S·J·莱恩 C·余

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

C09G116

IPC分类号：

C08J514 B24B2900 H01L21304

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

张宜红

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-08-08	公开	公开
2010-01-13	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回

共 50 条

[1]

化学机械抛光层间介电层的组合物和方法 [P].

A·R·贝克三世 ;

S·J·莱恩 ;

刘振东 .

中国专利 :CN1837321A ,2006-09-27

[2]

用来化学机械抛光薄膜和介电材料的组合物和方法 [P].

B·L·米勒 .

中国专利 :CN1837322A ,2006-09-27

[3]

用于对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物 [P].

S·J·兰 ;

C·余 .

中国专利 :CN101054498A ,2007-10-17

[4]

化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的多步方法 [P].

S·J·莱恩 ;

A·S·拉文 ;

B·L·米勒 ;

C·于 .

中国专利 :CN1822325A ,2006-08-23

[5]

化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法 [P].

S·J·莱恩 ;

B·L·米勒 ;

C·余 .

中国专利 :CN1660923A ,2005-08-31

[6]

化学机械抛光组合物、清洗组合物、化学机械抛光方法和清洗方法 [P].

北村启 ;

增田刚 ;

松村义之 ;

并木明久 ;

齐藤健 .

中国专利 :CN114258421A ,2022-03-29

[7]

化学机械抛光组合物和方法 [P].

王红雨 ;

D·莫斯利 .

中国专利 :CN103773248A ,2014-05-07

[8]

一种层间介电层的化学机械抛光方法及其器件和电子装置 [P].

赵简 ;

王杭萍 .

中国专利 :CN106356295A ,2017-01-25

[9]

化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P].

梅英杰 ;

鲁航 ;

王凯 ;

田骐源 ;

袁文杰 ;

高彦升 ;

闫晨凯 .

中国专利 :CN118721051A ,2024-10-01

[10]

无磨料的化学机械抛光组合物 [P].

王红雨 ;

S·A·伊比特森 ;

T·高希 ;

M·R·温克勒 .

中国专利 :CN102031065A ,2011-04-27

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