沟槽栅功率MOSFET及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010076557.9
申请日
2020-01-23
公开(公告)号
CN111276540A
公开(公告)日
2020-06-12
发明(设计)人
张永熙 陈伟 黄海涛
申请人
申请人地址
201306 上海市浦东新区南汇新城镇海洋一路333号8号楼3楼
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L29423 H01L2916 H01L2104
代理机构
上海华诚知识产权代理有限公司 31300
代理人
肖华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
沟槽栅功率MOSFET及其制造方法 [P]. 
张永熙 ;
陈伟 ;
黄海涛 .
中国专利 :CN115084236A ,2022-09-20
[2]
沟槽栅功率MOSFET及其制造方法 [P]. 
邵向荣 .
中国专利 :CN105551965A ,2016-05-04
[3]
沟槽栅功率MOSFET结构及其制造方法 [P]. 
柯行飞 ;
缪进征 .
中国专利 :CN106024894B ,2016-10-12
[4]
沟槽栅功率MOSFET及其制造方法 [P]. 
颜树范 .
中国专利 :CN107527944B ,2017-12-29
[5]
一种沟槽栅功率MOSFET的结构及沟槽栅功率MOSFET制造方法 [P]. 
陈思哲 ;
仲雪倩 ;
黄海涛 ;
陈伟 ;
张永熙 .
中国专利 :CN119835982A ,2025-04-15
[6]
一种沟槽栅功率MOSFET的结构及沟槽栅功率MOSFET制造方法 [P]. 
陈思哲 ;
仲雪倩 ;
黄海涛 ;
陈伟 ;
张永熙 .
中国专利 :CN119835982B ,2025-07-01
[7]
沟槽栅功率MOSFET及制造方法 [P]. 
颜树范 .
中国专利 :CN109817720A ,2019-05-28
[8]
沟槽栅功率MOSFET及制造方法 [P]. 
柯行飞 .
中国专利 :CN105932064B ,2016-09-07
[9]
沟槽栅功率MOSFET及制造方法 [P]. 
柯行飞 .
中国专利 :CN106129105B ,2016-11-16
[10]
沟槽栅MOSFET器件及其制造方法 [P]. 
蒋容 .
中国专利 :CN111370487B ,2020-07-03