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一种外延沉积反应室、沉积系统及沉积方法
被引:0
申请号
:
CN202210481219.2
申请日
:
2022-05-05
公开(公告)号
:
CN114753001A
公开(公告)日
:
2022-07-15
发明(设计)人
:
盛飞龙
郭嘉杰
王慧勇
王鑫
吴彩庭
孔倩茵
申请人
:
申请人地址
:
528200 广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号
IPC主分类号
:
C30B2508
IPC分类号
:
C30B2516
C30B2514
C30B2512
C23C1652
C23C16458
C23C16455
代理机构
:
佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377
代理人
:
黄家豪
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-08-02
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 25/08 申请日:20220505
2022-07-15
公开
公开
共 50 条
[1]
一种外延沉积腔室
[P].
沈文杰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
沈文杰
;
傅林坚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
傅林坚
;
潘文博
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
潘文博
;
董医芳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
董医芳
;
汤承伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
汤承伟
;
章杰峰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
章杰峰
;
麻鹏达
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
麻鹏达
;
周建灿
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
周建灿
.
中国专利
:CN209412356U
,2019-09-20
[2]
沉积系统及沉积方法
[P].
郑文豪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郑文豪
;
朱玄之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
朱玄之
;
陈彦羽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈彦羽
.
中国专利
:CN115198236B
,2024-03-08
[3]
外延沉积设备
[P].
王树林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王树林
;
曹建伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
曹建伟
.
中国专利
:CN218321744U
,2023-01-17
[4]
一种多腔室化学气相沉积反应室及沉积系统
[P].
张明倩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张明倩
;
于金凤
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
于金凤
.
中国专利
:CN215517629U
,2022-01-14
[5]
用于外延沉积的反应腔
[P].
黄允文
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
黄允文
;
田益西
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
田益西
.
中国专利
:CN103320852A
,2013-09-25
[6]
沉积方法、沉积缺陷侦测方法及沉积系统
[P].
郑文豪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郑文豪
;
陈彦羽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈彦羽
;
戴逸明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
戴逸明
.
中国专利
:CN114921760B
,2024-05-28
[7]
沉积方法、沉积缺陷侦测方法及沉积系统
[P].
郑文豪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
郑文豪
;
陈彦羽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈彦羽
;
戴逸明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
戴逸明
.
中国专利
:CN114921760A
,2022-08-19
[8]
沉积制备装置及外延膜沉积制备方法
[P].
龙占勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
龙占勇
;
韩雪岭
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
韩雪岭
;
李洪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
李洪
;
刘定财
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
刘定财
;
梁展程
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
梁展程
;
林佳继
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司
林佳继
.
中国专利
:CN119082860A
,2024-12-06
[9]
一种化学气相沉积室及沉积系统
[P].
陈毅明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈毅明
;
于金凤
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
于金凤
.
中国专利
:CN216155961U
,2022-04-01
[10]
沉积设备及沉积系统
[P].
王建卫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王建卫
;
沈一春
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
沈一春
;
张贤根
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张贤根
;
王占举
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王占举
;
施敏丰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
施敏丰
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中国专利
:CN209778654U
,2019-12-13
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