离子源和等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680025436.X

申请日：

2006-09-07

公开(公告)号：

CN101223624B

公开(公告)日：

2008-07-16

发明(设计)人：

佐佐木德康清水三郎国部利寿

申请人：

申请人地址：

日本神奈川

IPC主分类号：

H01J2716

IPC分类号：

H01J3708 H01J37305 H01J37317 H05H146

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

王永刚

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-06-15	授权	授权
2008-07-16	公开	公开
2008-10-22	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

等离子体源和等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

长田勇辉 ;

宫下大幸 ;

小野田裕之 ;

川上聪 .

中国专利 :CN115696713A ,2023-02-03

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

丸山幸儿 ;

堀口将人 ;

松木哲理 ;

舆石公 .

中国专利 :CN105379428B ,2016-03-02

[4]

等离子体处理装置 [P].

桧森慎司 ;

林大辅 ;

清水昭贵 .

中国专利 :CN102110574B ,2011-06-29

[5]

等离子体处理装置 [P].

舆水地盐 .

中国专利 :CN101853764A ,2010-10-06

[6]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

小松智仁 ;

池田太郎 ;

藤野丰 .

中国专利 :CN104717820B ,2015-06-17

[7]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

河西繁 .

中国专利 :CN101385129B ,2009-03-11

[8]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

长田勇辉 .

中国专利 :CN102458032A ,2012-05-16

[9]

离子源和等离子体处理设备 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN208970478U ,2019-06-11

[10]

离子源和等离子体处理设备 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN110970280A ,2020-04-07

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