离子源和等离子体处理设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201821602289.4

申请日：

2018-09-29

公开(公告)号：

CN208970478U

公开(公告)日：

2019-06-11

发明(设计)人：

不公告发明人

申请人：

申请人地址：

230000 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室

IPC主分类号：

H01J3708

IPC分类号：

H01J3730 H01J37317

代理机构：

北京律智知识产权代理有限公司 11438

代理人：

袁礼君;阚梓瑄

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-06-11	授权	授权

共 50 条

[1]

离子源和等离子体处理设备 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN110970280A ,2020-04-07

[2]

离子源和等离子体处理装置 [P].

佐佐木德康 ;

清水三郎 ;

国部利寿 .

中国专利 :CN101223624B ,2008-07-16

[3]

等离子体离子源 [P].

缪同群 ;

谢圣鸣 .

中国专利 :CN220439551U ,2024-02-02

[4]

等离子体处理设备 [P].

马哲国 ;

陈金元 ;

欧阳亮 ;

董家伟 .

中国专利 :CN216145583U ,2022-03-29

[5]

等离子体处理设备 [P].

王许 ;

朱永成 ;

李琳 ;

王智昊 .

中国专利 :CN223665407U ,2025-12-12

[6]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

菅井秀郎 ;

井出哲也 ;

佐佐木厚 ;

东和文 ;

中田行彦 .

中国专利 :CN1670912A ,2005-09-21

[7]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

李勇锡 ;

郑石源 ;

许明洙 ;

安美罗 .

中国专利 :CN104576282A ,2015-04-29

[8]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

林久贵 ;

富冈和广 ;

山本洋 ;

今村翼 .

中国专利 :CN103681196A ,2014-03-26

[9]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

山崎圭一 ;

猪冈结希子 ;

泽田康志 ;

田口典幸 ;

中园佳幸 ;

仲野章生 .

中国专利 :CN1165208C ,2002-02-06

[10]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

岩井哲博 ;

有田洁 .

中国专利 :CN1669109A ,2005-09-14

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