等离子体处理设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202121813877.4

申请日：

2021-08-05

公开(公告)号：

CN216145583U

公开(公告)日：

2022-03-29

发明(设计)人：

马哲国陈金元欧阳亮董家伟

申请人：

申请人地址：

201306 上海市浦东新区自由贸易试验区临港新片区江山路2699弄3号厂房

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L3118

代理机构：

代理人：

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-29	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理设备 [P].

欧阳亮 .

中国专利 :CN216145635U ,2022-03-29

[2]

等离子体处理设备 [P].

魏强 ;

黄允文 ;

郭盛 .

中国专利 :CN113053713A ,2021-06-29

[3]

等离子体处理设备 [P].

数见秀之 ;

手束勉 ;

西尾良司 ;

荒井雅嗣 ;

吉冈健 ;

坪根恒彦 ;

土居昭 ;

枝村学 ;

前田贤治 ;

金井三郎 .

中国专利 :CN1185030A ,1998-06-17

[4]

等离子体处理设备 [P].

朴希侦 .

中国专利 :CN202633209U ,2012-12-26

[5]

等离子体处理设备 [P].

田村一成 .

中国专利 :CN101500370A ,2009-08-05

[6]

等离子体处理设备 [P].

王许 ;

朱永成 ;

李琳 ;

王智昊 .

中国专利 :CN223665407U ,2025-12-12

[7]

离子源和等离子体处理设备 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN208970478U ,2019-06-11

[8]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

菅井秀郎 ;

井出哲也 ;

佐佐木厚 ;

东和文 ;

中田行彦 .

中国专利 :CN1670912A ,2005-09-21

[9]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

李勇锡 ;

郑石源 ;

许明洙 ;

安美罗 .

中国专利 :CN104576282A ,2015-04-29

[10]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

林久贵 ;

富冈和广 ;

山本洋 ;

今村翼 .

中国专利 :CN103681196A ,2014-03-26

← 1 2 3 4 5 →