等离子体处理设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202423135658.1

申请日：

2024-12-18

公开(公告)号：

CN223665407U

公开(公告)日：

2025-12-12

发明(设计)人：

王许朱永成李琳王智昊

申请人：

中微半导体设备（上海）股份有限公司

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01L21/67

代理机构：

上海元好知识产权代理有限公司 31323

代理人：

张静洁;徐雯琼

法律状态：

授权

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-12	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理设备 [P].

江家玮 ;

徐朝阳 ;

廉晓芳 ;

范光伟 .

中国专利 :CN112530774A ,2021-03-19

[2]

等离子体处理设备 [P].

江家玮 ;

徐朝阳 ;

廉晓芳 ;

范光伟 .

中国专利 :CN112530774B ,2024-04-05

[3]

等离子体处理设备 [P].

马哲国 ;

陈金元 ;

欧阳亮 ;

董家伟 .

中国专利 :CN216145583U ,2022-03-29

[4]

等离子体处理设备 [P].

朴希侦 .

中国专利 :CN202633209U ,2012-12-26

[5]

等离子体处理设备 [P].

欧阳亮 .

中国专利 :CN216145635U ,2022-03-29

[6]

离子源和等离子体处理设备 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN208970478U ,2019-06-11

[7]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

菅井秀郎 ;

井出哲也 ;

佐佐木厚 ;

东和文 ;

中田行彦 .

中国专利 :CN1670912A ,2005-09-21

[8]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

李勇锡 ;

郑石源 ;

许明洙 ;

安美罗 .

中国专利 :CN104576282A ,2015-04-29

[9]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

林久贵 ;

富冈和广 ;

山本洋 ;

今村翼 .

中国专利 :CN103681196A ,2014-03-26

[10]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

山崎圭一 ;

猪冈结希子 ;

泽田康志 ;

田口典幸 ;

中园佳幸 ;

仲野章生 .

中国专利 :CN1165208C ,2002-02-06

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