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等离子体处理设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202121791206.2
申请日
:
2021-08-03
公开(公告)号
:
CN216145635U
公开(公告)日
:
2022-03-29
发明(设计)人
:
欧阳亮
申请人
:
申请人地址
:
225400 江苏省泰州市泰兴高新技术产业开发区环溪路北侧
IPC主分类号
:
H01L3118
IPC分类号
:
H01L310747
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-03-29
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体处理设备
[P].
马哲国
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马哲国
;
陈金元
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陈金元
;
欧阳亮
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欧阳亮
;
董家伟
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董家伟
.
中国专利
:CN216145583U
,2022-03-29
[2]
等离子体处理设备以及等离子体处理方法
[P].
黄振华
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黄振华
.
中国专利
:CN113035677B
,2021-06-25
[3]
等离子体处理设备
[P].
朴希侦
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朴希侦
.
中国专利
:CN202633209U
,2012-12-26
[4]
等离子体处理设备
[P].
王许
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中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
王许
;
朱永成
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
朱永成
;
李琳
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
李琳
;
王智昊
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
王智昊
.
中国专利
:CN223665407U
,2025-12-12
[5]
等离子体屏蔽组件和等离子体处理设备
[P].
林垠赞
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三星显示有限公司
三星显示有限公司
林垠赞
;
柳海永
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三星显示有限公司
三星显示有限公司
柳海永
;
李殷守
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三星显示有限公司
三星显示有限公司
李殷守
;
朴瑄昱
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机构:
三星显示有限公司
三星显示有限公司
朴瑄昱
;
张容文
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三星显示有限公司
三星显示有限公司
张容文
;
朴炫九
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机构:
三星显示有限公司
三星显示有限公司
朴炫九
;
李在龙
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机构:
三星显示有限公司
三星显示有限公司
李在龙
.
韩国专利
:CN222705440U
,2025-04-01
[6]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
菅井秀郎
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菅井秀郎
;
井出哲也
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井出哲也
;
佐佐木厚
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佐佐木厚
;
东和文
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东和文
;
中田行彦
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中田行彦
.
中国专利
:CN1670912A
,2005-09-21
[7]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
李勇锡
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李勇锡
;
郑石源
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郑石源
;
许明洙
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许明洙
;
安美罗
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安美罗
.
中国专利
:CN104576282A
,2015-04-29
[8]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
宇井明生
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宇井明生
;
林久贵
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林久贵
;
富冈和广
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富冈和广
;
山本洋
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山本洋
;
今村翼
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今村翼
.
中国专利
:CN103681196A
,2014-03-26
[9]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
山崎圭一
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山崎圭一
;
猪冈结希子
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猪冈结希子
;
泽田康志
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泽田康志
;
田口典幸
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田口典幸
;
中园佳幸
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中园佳幸
;
仲野章生
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仲野章生
.
中国专利
:CN1165208C
,2002-02-06
[10]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
岩井哲博
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岩井哲博
;
有田洁
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有田洁
.
中国专利
:CN1669109A
,2005-09-14
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