光刻胶、光刻胶的图案化方法及集成电路板的刻蚀方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010811304.1
申请日
2020-08-13
公开(公告)号
CN111965947B
公开(公告)日
2020-11-20
发明(设计)人
徐宏 何向明 王倩倩
申请人
申请人地址
213100 江苏省常州市常州西太湖科技产业园祥云路6号3号楼1楼
IPC主分类号
G03F7004
IPC分类号
代理机构
北京华进京联知识产权代理有限公司 11606
代理人
王勤思
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
光刻胶、光刻胶的图案化方法及生成印刷电路板的方法 [P]. 
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何向明 ;
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[2]
光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P]. 
徐宏 ;
何向明 ;
刘天棋 .
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[3]
集成电路光刻胶涂布方法 [P]. 
凌坚 .
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[4]
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宁先捷 .
中国专利 :CN102096310B ,2011-06-15
[5]
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朱联合 ;
刘丁 ;
王绪根 ;
姚振海 .
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[6]
光刻胶及形成光刻图案的方法 [P]. 
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胡春青 ;
马丽君 .
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[7]
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邱靖尧 ;
谢玟茜 ;
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[8]
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王科 .
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[9]
耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法 [P]. 
何珂 ;
戈士勇 .
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[10]
光刻胶的硅化方法及形成光刻胶掩模图形的方法 [P]. 
崔彰日 ;
李冬 .
中国专利 :CN101458460A ,2009-06-17