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一种硅片的抛光后清洗方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010258268.0
申请日
:
2020-04-03
公开(公告)号
:
CN113496868A
公开(公告)日
:
2021-10-12
发明(设计)人
:
张俊宝
陈猛
申请人
:
申请人地址
:
400714 重庆市北碚区两江新区云汉大道5号附188
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-10-29
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20200403
2021-10-12
公开
公开
共 50 条
[1]
一种硅片的抛光方法
[P].
沈思情
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沈思情
;
山田宪治
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山田宪治
;
刘浦锋
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刘浦锋
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宋洪伟
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宋洪伟
;
陈猛
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陈猛
.
中国专利
:CN105252406A
,2016-01-20
[2]
一种金刚线切割后的硅片清洗方法
[P].
刘宝华
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刘宝华
;
任崇荣
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任崇荣
;
谷燕铂
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谷燕铂
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李东东
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李东东
;
王立明
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王立明
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任欢欢
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任欢欢
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梁玲
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梁玲
;
赵强
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赵强
;
王莹
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王莹
.
中国专利
:CN107240546B
,2017-10-10
[3]
一种对化学机械抛光后硅片的清洗方法
[P].
王晨
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王晨
;
何华锋
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何华锋
.
中国专利
:CN102820210A
,2012-12-12
[4]
一种硅片的清洗方法
[P].
侯玥玥
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侯玥玥
;
黄纪德
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黄纪德
;
金井升
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金井升
;
张昕宇
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张昕宇
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金浩
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金浩
.
中国专利
:CN108039315A
,2018-05-15
[5]
一种用于硅片清洗抛光的混酸清洗液及抛光硅片清洗方法
[P].
杉原一男
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杉原一男
;
贺贤汉
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贺贤汉
;
李飞
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李飞
;
赵剑锋
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赵剑锋
;
洪漪
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洪漪
.
中国专利
:CN113736580A
,2021-12-03
[6]
一种大尺寸硅片最终抛光后清洗工艺
[P].
张琪
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
张琪
;
王莎
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王莎
;
王壹帆
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王壹帆
;
王凯
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
王凯
;
周霖
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
周霖
;
潘凤利
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
潘凤利
;
李博
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
李博
;
冯帆
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
冯帆
;
段一菲
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万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
段一菲
;
胡晓丹
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机构:
万华化学集团电子材料有限公司
万华化学集团电子材料有限公司
胡晓丹
.
中国专利
:CN119673752A
,2025-03-21
[7]
一种太阳能硅片清洗剂
[P].
支田田
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支田田
;
周君
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周君
;
杨长剑
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杨长剑
.
中国专利
:CN103484261B
,2014-01-01
[8]
一种改善腐蚀后药液残留的硅片清洗方法
[P].
王建华
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王建华
;
贺贤汉
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贺贤汉
;
王全喜
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王全喜
;
胡兴平
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胡兴平
.
中国专利
:CN110813881A
,2020-02-21
[9]
一种硅片清洗装置及硅片清洗方法
[P].
李昀泽
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李昀泽
.
中国专利
:CN110323164A
,2019-10-11
[10]
一种硅片的清洗方法
[P].
于昊
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于昊
;
宫勇
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宫勇
;
兰育辉
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兰育辉
.
中国专利
:CN102114481B
,2011-07-06
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