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亚大气压化学气相沉积设备的气压控制系统
被引:0
申请号
:
CN202220573923.6
申请日
:
2022-03-16
公开(公告)号
:
CN217077787U
公开(公告)日
:
2022-07-29
发明(设计)人
:
王磊
江为团
王建上
陈明华
申请人
:
申请人地址
:
361026 福建省厦门市海沧区兰英路89号
IPC主分类号
:
C23C1652
IPC分类号
:
C23C1644
C23C16458
H01L21205
代理机构
:
北京成创同维知识产权代理有限公司 11449
代理人
:
马陆娟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-07-29
授权
授权
共 50 条
[1]
化学气相沉积设备的控制系统
[P].
张义明
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张义明
;
陈力兵
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陈力兵
;
祝龙飞
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祝龙飞
;
房伟
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房伟
.
中国专利
:CN203007418U
,2013-06-19
[2]
大气压化学气相淀积
[P].
N·W·约翰斯顿
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N·W·约翰斯顿
.
中国专利
:CN101432457A
,2009-05-13
[3]
化学气相沉积设备的控制系统
[P].
张义明
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张义明
;
陈力兵
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陈力兵
;
祝龙飞
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祝龙飞
;
房伟
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房伟
.
中国专利
:CN103911602A
,2014-07-09
[4]
大气压化学汽相淀积
[P].
N·W·约翰斯顿
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N·W·约翰斯顿
;
K·R·科尔曼约斯
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K·R·科尔曼约斯
;
N·A·赖特
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N·A·赖特
.
中国专利
:CN101432458A
,2009-05-13
[5]
化学气相沉积炉及化学气相沉积设备
[P].
朱伟杰
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朱伟杰
;
顾志强
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顾志强
;
戴建庭
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戴建庭
;
董宁
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董宁
;
李强
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李强
.
中国专利
:CN209522919U
,2019-10-22
[6]
一种化学气相沉积设备及其控制系统
[P].
程金帅
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机构:
河南天璇半导体科技有限责任公司
河南天璇半导体科技有限责任公司
程金帅
;
李宏利
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机构:
河南天璇半导体科技有限责任公司
河南天璇半导体科技有限责任公司
李宏利
;
孙胜浩
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机构:
河南天璇半导体科技有限责任公司
河南天璇半导体科技有限责任公司
孙胜浩
.
中国专利
:CN117758241A
,2024-03-26
[7]
大气压等离子体增强化学气相沉积方法
[P].
克里斯蒂娜·A·罗顿
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克里斯蒂娜·A·罗顿
;
约翰·M·瓦拉科姆斯基
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约翰·M·瓦拉科姆斯基
.
中国专利
:CN101772588A
,2010-07-07
[8]
精密大气压控制测量系统
[P].
张季然
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张季然
;
谢崇喜
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谢崇喜
.
中国专利
:CN210005159U
,2020-01-31
[9]
化学气相沉积设备
[P].
梁秉文
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梁秉文
.
中国专利
:CN202705462U
,2013-01-30
[10]
化学气相沉积设备
[P].
胡昌义
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胡昌义
;
雷春明
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雷春明
;
毛勇
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毛勇
;
郭锦新
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郭锦新
;
李靖华
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李靖华
;
周世平
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周世平
;
徐云
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徐云
;
王云
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王云
;
欧阳远良
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欧阳远良
.
中国专利
:CN2851277Y
,2006-12-27
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