一种磁性溅射靶材

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510723496.X

申请日：

2015-10-29

公开(公告)号：

CN105603371A

公开(公告)日：

2016-05-25

发明(设计)人：

张瑞丽任瑞

申请人：

申请人地址：

310018 浙江省杭州市下沙经济技术开发区20号路199号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙) 33231

代理人：

张宇娟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-05-25	公开	公开
2016-06-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101666696148 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:201510723496X 申请日:20151029
2018-07-10	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C 14/35 申请公布日:20160525

共 50 条

[1]

一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P].

魏钰 ;

宋博韬 ;

成军 ;

刘宁 .

中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08

[2]

磁控溅射靶材 [P].

姚力军 ;

相原俊夫 ;

大岩一彦 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

钟伟华 .

中国专利 :CN202576553U ,2012-12-05

[3]

一种磁控溅射靶材 [P].

曹明刚 ;

张磊 ;

王静 ;

王鑫 ;

刘雪莲 ;

焦新宇 ;

金作林 .

中国专利 :CN213507170U ,2021-06-22

[4]

一种磁控溅射靶材 [P].

高庆 .

中国专利 :CN220284198U ,2024-01-02

[5]

一种磁控溅射靶材 [P].

杨丰 ;

孟彬 ;

吴闪 ;

林作亮 ;

朱延俊 .

中国专利 :CN206089794U ,2017-04-12

[6]

一种磁性溅射靶材、靶材组件及磁控溅射方法 [P].

边逸军 ;

姚力军 ;

吕燕妮 ;

钟伟华 .

中国专利 :CN120041798A ,2025-05-27

[7]

一种磁控溅射靶材、其制备方法及应用 [P].

李育智 ;

龚政 ;

陈志涛 ;

郭婵 ;

王建太 ;

邹胜晗 ;

潘章旭 .

中国专利 :CN114807882A ,2022-07-29

[8]

一种新型磁控溅射靶材 [P].

张庆丰 ;

范晓鹏 ;

李贵成 ;

汪涛 ;

胡尚智 ;

张加友 ;

刘占伟 .

中国专利 :CN204138753U ,2015-02-04

[9]

一种磁控溅射靶材结构 [P].

罗晴 .

中国专利 :CN220393887U ,2024-01-26

[10]

一种带台阶的磁控溅射靶材 [P].

薛超 ;

陆映东 ;

黄誓成 ;

张倍维 ;

宋春华 ;

覃丽莉 .

中国专利 :CN222250948U ,2024-12-27

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