一种磁控溅射靶材

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201620996161.5

申请日：

2016-08-31

公开(公告)号：

CN206089794U

公开(公告)日：

2017-04-12

发明(设计)人：

杨丰孟彬吴闪林作亮朱延俊

申请人：

申请人地址：

650093 云南省昆明市五华区学府路253号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

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法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-04-12	授权	授权
2019-08-16	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20160831 授权公告日:20170412 终止日期:20180831

共 50 条

[1]

一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P].

魏钰 ;

宋博韬 ;

成军 ;

刘宁 .

中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08

[2]

一种新型磁控溅射靶材 [P].

张庆丰 ;

范晓鹏 ;

李贵成 ;

汪涛 ;

胡尚智 ;

张加友 ;

刘占伟 .

中国专利 :CN204138753U ,2015-02-04

[3]

一种磁控溅射靶材 [P].

曹明刚 ;

张磊 ;

王静 ;

王鑫 ;

刘雪莲 ;

焦新宇 ;

金作林 .

中国专利 :CN213507170U ,2021-06-22

[4]

一种磁控溅射靶材 [P].

高庆 .

中国专利 :CN220284198U ,2024-01-02

[5]

磁控溅射靶材 [P].

姚力军 ;

相原俊夫 ;

大岩一彦 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

钟伟华 .

中国专利 :CN202576553U ,2012-12-05

[6]

矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN203782228U ,2014-08-20

[7]

矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置 [P].

孔伟华 .

中国专利 :CN216192676U ,2022-04-05

[8]

一种磁控溅射靶材结构 [P].

罗晴 .

中国专利 :CN220393887U ,2024-01-26

[9]

一种磁控溅射靶材结构 [P].

余松霖 ;

林俊杰 ;

覃秦 .

中国专利 :CN203715718U ,2014-07-16

[10]

磁控溅射靶材和磁控溅射装置 [P].

胡小波 .

中国专利 :CN110129755A ,2019-08-16

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