一种低栅极电荷功率器件及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310734227.4
申请日
2013-12-27
公开(公告)号
CN103730506A
公开(公告)日
2014-04-16
发明(设计)人
王海峰 张瑞丽 石夏雨 邱涛 陈祖银
申请人
申请人地址
310018 浙江省杭州市下沙经济技术开发区20号大街199号
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L29423 H01L21336 H01L2128
代理机构
杭州杭诚专利事务所有限公司 33109
代理人
尉伟敏
法律状态
公开
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
一种低栅极电荷的超级结功率器件 [P]. 
丁磊 .
中国专利 :CN210607253U ,2020-05-22
[2]
一种低栅极电荷深沟槽功率MOS器件及其制造方法 [P]. 
秦旭光 ;
殷允超 .
中国专利 :CN101719516A ,2010-06-02
[3]
一种降低栅极电荷的平面栅功率器件 [P]. 
薛璐 ;
何军 ;
张海涛 .
中国专利 :CN208489199U ,2019-02-12
[4]
低栅极电荷低导通电阻深沟槽功率MOSFET器件及其制造方法 [P]. 
朱袁正 ;
秦旭光 ;
丁磊 ;
叶鹏 .
中国专利 :CN102263133B ,2011-11-30
[5]
一种平面栅极功率器件及其制造方法 [P]. 
胡兴正 ;
曹瑞彬 ;
薛璐 .
中国专利 :CN117954479B ,2024-05-28
[6]
一种平面栅极功率器件及其制造方法 [P]. 
胡兴正 ;
曹瑞彬 ;
薛璐 .
中国专利 :CN117954479A ,2024-04-30
[7]
低栅极电荷低导通电阻深沟槽功率MOSFET器件 [P]. 
朱袁正 ;
秦旭光 ;
丁磊 ;
叶鹏 .
中国专利 :CN202205757U ,2012-04-25
[8]
低栅极电荷沟槽功率MOS器件及制造方法 [P]. 
罗清威 ;
房宝青 ;
左燕丽 .
中国专利 :CN103426925B ,2013-12-04
[9]
一种功率器件栅极集成电阻、功率器件及其制备方法 [P]. 
吴振兴 .
中国专利 :CN116666380B ,2024-03-12
[10]
一种功率开关器件栅极电荷的测量系统及方法 [P]. 
刘大勇 ;
杜睿 .
中国专利 :CN114563679A ,2022-05-31