等离子处理装置用环壳

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN201730079099.3

申请日：

2017-03-17

公开(公告)号：

CN304291185S

公开(公告)日：

2017-09-22

发明(设计)人：

一野贵雅佐藤浩平中本和则

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

0808

IPC分类号：

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

丁文蕴;许凯

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-09-22	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子处理装置用环 [P].

矶崎真一 ;

森政士 ;

横川贤悦 ;

荒濑高男 ;

岩濑拓 .

中国专利 :CN305411691S ,2019-11-01

[2]

等离子处理装置用环 [P].

一野贵雅 ;

佐藤浩平 ;

中本和则 .

中国专利 :CN304264355S ,2017-09-01

[3]

等离子处理装置用基座 [P].

一野贵雅 ;

佐藤浩平 ;

中本和则 .

中国专利 :CN304265916S ,2017-09-01

[4]

等离子处理装置用环 [P].

永井宏治 ;

川口忠义 ;

池永和幸 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN307657976S ,2022-11-15

[5]

等离子处理装置用气体环 [P].

奥田浩司 ;

田中基裕 .

中国专利 :CN304826214S ,2018-09-21

[6]

等离子处理装置用环盖 [P].

田内勤 ;

植村崇 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN303655665S ,2016-04-27

[7]

等离子处理装置用基座环 [P].

广实一幸 ;

白木智大 .

日本专利 :CN309012900S ,2024-12-17

[8]

等离子处理装置用基座环 [P].

中谷信太郎 .

中国专利 :CN306383277S ,2021-03-16

[9]

等离子处理装置用基座环 [P].

中谷信太郎 ;

一野贵雅 ;

中本和则 ;

田中优贵 .

中国专利 :CN307212651S ,2022-03-29

[10]

等离子处理装置套环 [P].

中村勤 ;

田内勤 ;

牧野昭孝 .

中国专利 :CN3605337D ,2007-01-31

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