等离子处理装置用环壳

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN201730079099.3

申请日：

2017-03-17

公开(公告)号：

CN304291185S

公开(公告)日：

2017-09-22

发明(设计)人：

一野贵雅佐藤浩平中本和则

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

0808

IPC分类号：

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

丁文蕴;许凯

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-09-22	授权	授权

共 50 条

[41]

等离子处理装置用电极板 [P].

矶崎真一 ;

森政士 ;

横川贤悦 ;

荒濑高男 ;

桥本尊久 .

中国专利 :CN304826212S ,2018-09-21

[42]

等离子处理装置用的密封部件 [P].

金亨源 ;

郑明敎 ;

郑熙锡 .

中国专利 :CN305142740S ,2019-05-03

[43]

聚焦环、等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

辻本宏 ;

永岩利文 ;

半田达也 .

中国专利 :CN101651078A ,2010-02-17

[44]

一种等离子约束环组件、等离子处理装置以及处理半导体衬底的方法 [P].

R·丁德萨 ;

F·科扎克维奇 ;

J·H·罗杰斯 ;

D·特拉塞尔 .

中国专利 :CN102867726B ,2013-01-09

[45]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

徐浩 ;

内田丈滋 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

井上智己 .

中国专利 :CN110752136A ,2020-02-04

[46]

等离子处理方法以及等离子处理装置 [P].

松井都 ;

桑原谦一 ;

臼井建人 ;

小林浩之 .

中国专利 :CN111801775A ,2020-10-20

[47]

等离子处理装置及等离子处理方法 [P].

黄太亨 ;

张鸿永 .

中国专利 :CN101267708A ,2008-09-17

[48]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

桧森慎司 .

中国专利 :CN101990353A ,2011-03-23

[49]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

市川贵大 ;

弘中嘉之 ;

大越康雄 .

日本专利 :CN115004864B ,2025-10-14

[50]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

玉利南菜子 ;

广田侯然 ;

角屋诚浩 ;

长谷征洋 .

中国专利 :CN113498546A ,2021-10-12

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