学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
等离子处理装置用环壳
被引:0
专利类型
:
外观设计
申请号
:
CN201730079099.3
申请日
:
2017-03-17
公开(公告)号
:
CN304291185S
公开(公告)日
:
2017-09-22
发明(设计)人
:
一野贵雅
佐藤浩平
中本和则
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
0808
IPC分类号
:
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
丁文蕴;许凯
法律状态
:
授权
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-09-22
授权
授权
共 50 条
[21]
等离子处理装置用上气室
[P].
永井宏治
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
永井宏治
;
川口忠义
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
川口忠义
;
池永和幸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
池永和幸
;
佐藤浩平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐藤浩平
.
中国专利
:CN307661752S
,2022-11-15
[22]
等离子处理装置用电极板外周环
[P].
矶崎真一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
矶崎真一
;
森政士
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
森政士
;
横川贤悦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
横川贤悦
;
荒濑高男
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
荒濑高男
;
桥本尊久
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
桥本尊久
.
中国专利
:CN304826211S
,2018-09-21
[23]
等离子处理装置用气体喷出板
[P].
田中一海
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
田中一海
;
奥田浩司
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
奥田浩司
.
中国专利
:CN304826225S
,2018-09-21
[24]
等离子处理装置用离子屏蔽板
[P].
中谷侑亮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
中谷侑亮
;
田中一海
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
田中一海
;
山冈正作
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山冈正作
;
园田靖
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
园田靖
;
岩濑拓
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
岩濑拓
.
中国专利
:CN307212654S
,2022-03-29
[25]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
中谷信太郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
中谷信太郎
;
一野贵雅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
一野贵雅
;
近藤勇树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
近藤勇树
.
日本专利
:CN119905448A
,2025-04-29
[26]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
福地功祐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
福地功祐
;
朝仓凉次
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
朝仓凉次
;
江藤宗一郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
江藤宗一郎
;
冈本翔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
冈本翔
;
臼井建人
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
臼井建人
;
中元茂
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
中元茂
.
中国专利
:CN114360993A
,2022-04-15
[27]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
福地功祐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
福地功祐
;
朝仓凉次
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
朝仓凉次
;
江藤宗一郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
江藤宗一郎
;
冈本翔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
冈本翔
;
臼井建人
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
臼井建人
;
中元茂
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
中元茂
.
日本专利
:CN114360993B
,2025-03-25
[28]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
中谷信太郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
中谷信太郎
;
一野贵雅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
一野贵雅
;
近藤勇树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
近藤勇树
.
日本专利
:CN115398602B
,2025-02-21
[29]
等离子处理装置以及等离子处理方法
[P].
中谷信太郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
中谷信太郎
;
一野贵雅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
一野贵雅
;
近藤勇树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
近藤勇树
.
中国专利
:CN115398602A
,2022-11-25
[30]
等离子处理装置、屏蔽环及屏蔽环用部件
[P].
富冈哲也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
富冈哲也
.
中国专利
:CN205900502U
,2017-01-18
←
1
2
3
4
5
→