等离子处理装置用环壳

被引:0
专利类型
外观设计
申请号
CN201730079099.3
申请日
2017-03-17
公开(公告)号
CN304291185S
公开(公告)日
2017-09-22
发明(设计)人
一野贵雅 佐藤浩平 中本和则
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
0808
IPC分类号
代理机构
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
丁文蕴;许凯
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[21]
等离子处理装置用上气室 [P]. 
永井宏治 ;
川口忠义 ;
池永和幸 ;
佐藤浩平 .
中国专利 :CN307661752S ,2022-11-15
[22]
等离子处理装置用电极板外周环 [P]. 
矶崎真一 ;
森政士 ;
横川贤悦 ;
荒濑高男 ;
桥本尊久 .
中国专利 :CN304826211S ,2018-09-21
[23]
等离子处理装置用气体喷出板 [P]. 
田中一海 ;
奥田浩司 .
中国专利 :CN304826225S ,2018-09-21
[24]
等离子处理装置用离子屏蔽板 [P]. 
中谷侑亮 ;
田中一海 ;
山冈正作 ;
园田靖 ;
岩濑拓 .
中国专利 :CN307212654S ,2022-03-29
[25]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
中谷信太郎 ;
一野贵雅 ;
近藤勇树 .
日本专利 :CN119905448A ,2025-04-29
[26]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
福地功祐 ;
朝仓凉次 ;
江藤宗一郎 ;
冈本翔 ;
臼井建人 ;
中元茂 .
中国专利 :CN114360993A ,2022-04-15
[27]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
福地功祐 ;
朝仓凉次 ;
江藤宗一郎 ;
冈本翔 ;
臼井建人 ;
中元茂 .
日本专利 :CN114360993B ,2025-03-25
[28]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
中谷信太郎 ;
一野贵雅 ;
近藤勇树 .
日本专利 :CN115398602B ,2025-02-21
[29]
等离子处理装置以及等离子处理方法 [P]. 
中谷信太郎 ;
一野贵雅 ;
近藤勇树 .
中国专利 :CN115398602A ,2022-11-25
[30]
等离子处理装置、屏蔽环及屏蔽环用部件 [P]. 
富冈哲也 .
中国专利 :CN205900502U ,2017-01-18