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单晶制造系统及单晶制造方法
被引：0
申请号：
CN202080087775.0
申请日：
2020-10-30
公开(公告)号：
CN114761626A
公开(公告)日：
2022-07-15
发明(设计)人：
西岗研一
高梨启一
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
C30B1522
IPC分类号：
C30B2906
代理机构：
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人：
闫小龙;吕传奇
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-08-02 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 15/22 申请日:20201030 |
| 2022-07-15 | 公开 | 公开 |