发明(设计)人:
内田健哉
福井博之
植松育生
岩本武明
权垠相
共 50 条
[1]
处理装置及处理方法
[P].
内田健哉
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
内田健哉
;
福井博之
论文数: 0 引用数: 0
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机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
福井博之
;
植松育生
论文数: 0 引用数: 0
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机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
植松育生
;
岩本武明
论文数: 0 引用数: 0
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机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
岩本武明
;
权垠相
论文数: 0 引用数: 0
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机构:
株式会社东芝
株式会社东芝
权垠相
.
日本专利 :CN112970095B ,2024-05-03 [2]
处理装置及处理方法
[P].
中国专利 :CN104037108A ,2014-09-10 [9]
处理装置及方法
[P].
中国专利 :CN1614739A ,2005-05-11 [10]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
大宅宗明
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
大宅宗明
;
北村翔也
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
北村翔也
.
日本专利 :CN117393462A ,2024-01-12