抗反射涂层填充式超低介电常数之铜互连制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310262907.0

申请日：

2013-06-27

公开(公告)号：

CN103346118B

公开(公告)日：

2013-10-09

发明(设计)人：

黄君毛智彪张瑜

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区高科技园区高斯路568号

IPC主分类号：

H01L21768

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

陆花

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-11-06	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101536327332 IPC(主分类):H01L 21/768 专利申请号:2013102629070 申请日:20130627
2013-10-09	公开	公开

共 44 条

[1]

超低介电常数薄膜铜互连的制作方法 [P].

陈玉文 .

中国专利 :CN102364669A ,2012-02-29

[2]

超低介电常数薄膜铜互连的制作方法 [P].

陈玉文 ;

黄晓橹 ;

谢欣云 .

中国专利 :CN102420179B ,2012-04-18

[3]

超低介电常数薄膜铜互连的制作方法 [P].

陈玉文 .

中国专利 :CN102315163A ,2012-01-11

[4]

介电常数可调的铜互连层间介质之制造方法 [P].

曾林华 ;

任昱 ;

吕煜坤 ;

张旭升 .

中国专利 :CN103325730A ,2013-09-25

[5]

超低介电常数薄膜铜互连的制作方法 [P].

陈玉文 .

中国专利 :CN102324403A ,2012-01-18

[6]

超低介电常数薄膜及其制造方法 [P].

汪钉崇 .

中国专利 :CN1716547A ,2006-01-04

[7]

超低介电常数薄膜铜互连结构及其制作方法 [P].

陈玉文 ;

张文广 ;

徐强 ;

郑春生 .

中国专利 :CN102420212A ,2012-04-18

[8]

超低介电常数的SiCOH薄膜及其制造方法 [P].

S·M·盖茨 ;

A·格里尔 .

中国专利 :CN1787881A ,2006-06-14

[9]

抗反射涂层及其制造方法 [P].

让-弗朗索瓦·乌达尔 ;

弗朗索瓦·莱科利 .

中国专利 :CN102812557A ,2012-12-05

[10]

甚低有效介电常数互连结构及其制造方法 [P].

唐纳德·F·克纳派瑞 ;

逖莫斯·J·达尔顿 ;

斯黛芬·M·盖茨 ;

玛哈德维尔·克里施南 ;

塞姆帕斯·普鲁肖撒曼 ;

肖恩·P·E·史密斯 ;

赛特亚·尼塔 .

中国专利 :CN1499606A ,2004-05-26

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