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一种基于化学气相沉积工艺制备均质碳化硅膜的方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311862121.2
申请日：
2023-12-29
公开(公告)号：
CN117966124A
公开(公告)日：
2024-05-03
发明(设计)人：
崔海珍
吴涛
申请人：
苏州精材半导体科技有限公司
北京精材半导体科技有限公司
申请人地址：
215127 江苏省苏州市中国（江苏）自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区启明路8号综合保税区B区H厂房
IPC主分类号：
C23C16/32
IPC分类号：
C23C16/455
代理机构：
北京弘权知识产权代理有限公司 11363
代理人：
逯长明;朱炎
法律状态：
发明专利申请公布后的驳回
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-12-09 | 发明专利申请公布后的驳回 | 发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):C23C 16/32申请公布日:20240503 |
| 2024-05-21 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/32申请日:20231229 |
| 2024-05-03 | 公开 | 公开 |