投影光学系统及曝光装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311507398.3
申请日
2023-11-13
公开(公告)号
CN117492333A
公开(公告)日
2024-02-02
发明(设计)人
马颖鏖 末永丰
申请人
上海芙野光学技术有限公司
申请人地址
201802 上海市嘉定区南翔镇田旺路65号2幢1层A区
IPC主分类号
G03F7/20
IPC分类号
代理机构
上海科律专利代理事务所(特殊普通合伙) 31290
代理人
袁亚军
法律状态
实质审查的生效
国省代码
上海市 市辖区
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P]. 
大村泰弘 .
中国专利 :CN1324342C ,2003-10-29
[2]
投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P]. 
大村泰弘 .
中国专利 :CN101216682A ,2008-07-09
[3]
投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P]. 
大村泰弘 .
中国专利 :CN101216599A ,2008-07-09
[4]
投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P]. 
大村泰弘 .
中国专利 :CN101216598A ,2008-07-09
[5]
投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P]. 
大村泰弘 .
中国专利 :CN101216600A ,2008-07-09
[6]
投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P]. 
大村泰弘 .
中国专利 :CN101295140A ,2008-10-29
[7]
投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P]. 
大村泰弘 .
中国专利 :CN1784623A ,2006-06-07
[8]
投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P]. 
大村泰弘 .
中国专利 :CN101171667A ,2008-04-30
[9]
投影光学系统及具备该投影光学系统的曝光装置 [P]. 
高桥友刀 .
中国专利 :CN1522381A ,2004-08-18
[10]
投影光学系统,具有该投影光学系统的投影曝光装置以及投影曝光方法 [P]. 
重松幸二 ;
水泽圣幸 ;
藤岛洋平 ;
松本实保 .
中国专利 :CN1376949A ,2002-10-30