一种功率MOSFET及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202211144941.3
申请日
2022-09-20
公开(公告)号
CN117790531A
公开(公告)日
2024-03-29
发明(设计)人
李平 马荣耀
申请人
华润微电子(重庆)有限公司
申请人地址
401331 重庆市沙坪坝区西永大道25号
IPC主分类号
H01L29/06
IPC分类号
H01L29/08 H01L29/10 H01L29/78 H01L27/07 H01L21/336
代理机构
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
余明伟
法律状态
公开
国省代码
重庆市 市辖区
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共 50 条
[1]
沟槽型功率MOSFET及其制备方法 [P]. 
周宏伟 ;
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[2]
一种功率MOSFET及其制备方法 [P]. 
周春宇 ;
王丹英 ;
贾仁需 ;
刘永 ;
梁昊春 ;
王冠宇 ;
徐超 ;
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[3]
一种功率MOSFET制备方法及功率MOSFET [P]. 
党晓军 ;
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衷世雄 .
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[4]
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冯涛 .
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[5]
功率MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
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胡磊 ;
王超 ;
杨棂鑫 ;
邢岳 ;
王振达 ;
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[6]
功率MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
周源 ;
胡磊 ;
王超 ;
杨棂鑫 ;
邢岳 ;
王振达 ;
罗胡瑞 .
中国专利 :CN114141878A ,2022-03-04
[7]
垂直功率MOSFET及其形成方法 [P]. 
伍震威 ;
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柳瑞兴 ;
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[8]
一种沟槽型双层栅功率MOSFET及其制造方法 [P]. 
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[9]
一种沟槽型功率MOSFET及其制备方法 [P]. 
黄平 .
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[10]
新型功率MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
徐吉程 ;
袁力鹏 ;
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