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一种功率MOSFET及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202211144941.3
申请日
:
2022-09-20
公开(公告)号
:
CN117790531A
公开(公告)日
:
2024-03-29
发明(设计)人
:
李平
马荣耀
申请人
:
华润微电子(重庆)有限公司
申请人地址
:
401331 重庆市沙坪坝区西永大道25号
IPC主分类号
:
H01L29/06
IPC分类号
:
H01L29/08
H01L29/10
H01L29/78
H01L27/07
H01L21/336
代理机构
:
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
:
余明伟
法律状态
:
公开
国省代码
:
重庆市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-03-29
公开
公开
2024-04-16
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 29/06申请日:20220920
共 50 条
[1]
沟槽型功率MOSFET及其制备方法
[P].
周宏伟
论文数:
0
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0
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0
周宏伟
;
阮孟波
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阮孟波
;
吴宗宪
论文数:
0
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0
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0
吴宗宪
.
中国专利
:CN103426924A
,2013-12-04
[2]
一种功率MOSFET及其制备方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
周春宇
;
王丹英
论文数:
0
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机构:
燕山大学
燕山大学
王丹英
;
贾仁需
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0
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0
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0
机构:
燕山大学
燕山大学
贾仁需
;
论文数:
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机构:
刘永
;
梁昊春
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0
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机构:
燕山大学
燕山大学
梁昊春
;
王冠宇
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0
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0
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0
机构:
燕山大学
燕山大学
王冠宇
;
论文数:
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机构:
徐超
;
论文数:
引用数:
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机构:
孙继浩
.
中国专利
:CN119486192A
,2025-02-18
[3]
一种功率MOSFET制备方法及功率MOSFET
[P].
党晓军
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0
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机构:
上海韦尔半导体股份有限公司
上海韦尔半导体股份有限公司
党晓军
;
董建新
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机构:
上海韦尔半导体股份有限公司
上海韦尔半导体股份有限公司
董建新
;
衷世雄
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0
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0
机构:
上海韦尔半导体股份有限公司
上海韦尔半导体股份有限公司
衷世雄
.
中国专利
:CN121174540A
,2025-12-19
[4]
可堆栈式功率MOSFET、功率MOSFET堆栈及其制备工艺
[P].
冯涛
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0
冯涛
.
中国专利
:CN102280478B
,2011-12-14
[5]
功率MOSFET器件及其制备方法
[P].
周源
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机构:
北京燕东微电子科技有限公司
北京燕东微电子科技有限公司
周源
;
胡磊
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0
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机构:
北京燕东微电子科技有限公司
北京燕东微电子科技有限公司
胡磊
;
王超
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机构:
北京燕东微电子科技有限公司
北京燕东微电子科技有限公司
王超
;
杨棂鑫
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机构:
北京燕东微电子科技有限公司
北京燕东微电子科技有限公司
杨棂鑫
;
邢岳
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机构:
北京燕东微电子科技有限公司
北京燕东微电子科技有限公司
邢岳
;
王振达
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机构:
北京燕东微电子科技有限公司
北京燕东微电子科技有限公司
王振达
;
罗胡瑞
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0
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0
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0
机构:
北京燕东微电子科技有限公司
北京燕东微电子科技有限公司
罗胡瑞
.
中国专利
:CN114141878B
,2025-08-01
[6]
功率MOSFET器件及其制备方法
[P].
周源
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0
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周源
;
胡磊
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胡磊
;
王超
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王超
;
杨棂鑫
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杨棂鑫
;
邢岳
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邢岳
;
王振达
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王振达
;
罗胡瑞
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罗胡瑞
.
中国专利
:CN114141878A
,2022-03-04
[7]
垂直功率MOSFET及其形成方法
[P].
伍震威
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0
伍震威
;
周学良
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周学良
;
柳瑞兴
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柳瑞兴
;
苏柏智
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苏柏智
.
中国专利
:CN103456790B
,2013-12-18
[8]
一种沟槽型双层栅功率MOSFET及其制造方法
[P].
黄伟
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0
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0
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黄伟
;
林伟铭
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0
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0
林伟铭
.
中国专利
:CN114334661B
,2022-04-12
[9]
一种沟槽型功率MOSFET及其制备方法
[P].
黄平
论文数:
0
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黄平
.
中国专利
:CN107658341B
,2018-02-02
[10]
新型功率MOSFET器件及其制备方法
[P].
徐吉程
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徐吉程
;
袁力鹏
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袁力鹏
;
范玮
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0
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范玮
.
中国专利
:CN109524472A
,2019-03-26
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