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半导体器件和制造这种半导体器件的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311380304.0
申请日
:
2023-10-24
公开(公告)号
:
CN117936490A
公开(公告)日
:
2024-04-26
发明(设计)人
:
阿内尔·塔杜兰
里卡多·杨多克
霍默·马尔维达
安东尼奥·迪马诺
申请人
:
安世有限公司
申请人地址
:
荷兰奈梅亨
IPC主分类号
:
H01L23/495
IPC分类号
:
H01L21/48
代理机构
:
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
:
顾欣;侯桂丽
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-11-11
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 23/495申请日:20231024
2024-04-26
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件和制造这种半导体器件的方法
[P].
金荣宽
论文数:
0
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0
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金荣宽
;
朴兴秀
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朴兴秀
;
朴泳旭
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朴泳旭
;
李相忍
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李相忍
;
张允僖
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张允僖
;
李钟镐
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李钟镐
;
崔城济
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崔城济
;
李承桓
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李承桓
;
林载顺
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林载顺
;
李周远
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李周远
.
中国专利
:CN1284747A
,2001-02-21
[2]
半导体器件的制造方法和半导体器件
[P].
内田正太郎
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内田正太郎
.
中国专利
:CN1157774C
,2002-04-17
[3]
半导体器件的制造方法和半导体器件
[P].
元田隆
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元田隆
;
加藤学
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加藤学
.
中国专利
:CN1144396A
,1997-03-05
[4]
半导体器件和制造半导体器件的方法
[P].
里卡多·杨多克
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里卡多·杨多克
;
亚当·布朗
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亚当·布朗
;
唐庆圆
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唐庆圆
.
中国专利
:CN115692354A
,2023-02-03
[5]
半导体器件和制造半导体器件的方法
[P].
尾藤康则
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尾藤康则
.
中国专利
:CN102569296A
,2012-07-11
[6]
半导体器件和制造半导体器件的方法
[P].
安东尼·马修
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安东尼·马修
;
里卡多·杨多克
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里卡多·杨多克
;
马诺耶·巴拉克瑞南
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马诺耶·巴拉克瑞南
;
亚当·布朗
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亚当·布朗
.
中国专利
:CN115692356A
,2023-02-03
[7]
半导体器件和半导体器件的制造方法
[P].
安达正树
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安达正树
;
小川功
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小川功
.
中国专利
:CN1179013A
,1998-04-15
[8]
半导体器件以及这种半导体器件的制造方法
[P].
张须坤
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机构:
安世半导体科技(上海)有限公司
安世半导体科技(上海)有限公司
张须坤
;
朱春林
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机构:
安世半导体科技(上海)有限公司
安世半导体科技(上海)有限公司
朱春林
;
严晓雯
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机构:
安世半导体科技(上海)有限公司
安世半导体科技(上海)有限公司
严晓雯
;
姜克
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机构:
安世半导体科技(上海)有限公司
安世半导体科技(上海)有限公司
姜克
.
中国专利
:CN120021378A
,2025-05-20
[9]
半导体器件以及制造这种半导体器件的方法
[P].
伊藤吉博
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伊藤吉博
;
门田道雄
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门田道雄
.
中国专利
:CN100376035C
,2005-08-24
[10]
半导体器件和这种器件的制造方法
[P].
简·雄斯基
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简·雄斯基
;
安科·黑林格
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安科·黑林格
.
中国专利
:CN102187466A
,2011-09-14
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