一种等离子体刻蚀终点检测系统及刻蚀终点检测方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311379316.1

申请日：

2023-10-23

公开(公告)号：

CN117451636A

公开(公告)日：

2024-01-26

发明(设计)人：

牛夷姜晶陈浩林李璇李志强王超

申请人：

电子科技大学

申请人地址：

611731 四川省成都市高新区（西区）西源大道2006号

IPC主分类号：

G01N21/25

IPC分类号：

H01L21/66 H01J37/32 G01N21/01 G01N21/27

代理机构：

电子科技大学专利中心 51203

代理人：

陈一鑫

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-01-26	公开	公开
2024-02-13	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G01N 21/25申请日:20231023

共 50 条

[1]

一种等离子体刻蚀终点检测系统及刻蚀终点检测方法 [P].

方铭国 .

中国专利 :CN121215542A ,2025-12-26

[2]

一种等离子体刻蚀终点检测方法 [P].

陈伟 ;

雷中柱 ;

茆健 ;

俞骁 ;

顾婷婷 ;

征真 ;

张丽 .

中国专利 :CN113643999A ,2021-11-12

[3]

用于无等离子体刻蚀工艺的刻蚀终点检测方法及检测系统 [P].

张南南 ;

张黎明 ;

云燕午 ;

任聪群 .

中国专利 :CN121237702A ,2025-12-30

[4]

刻蚀终点检测方法 [P].

罗永坚 ;

张颂周 ;

任昱 ;

朱骏 ;

吕煜坤 ;

张旭升 .

中国专利 :CN104392946A ,2015-03-04

[5]

一种等离子体刻蚀工艺的终点检测方法 [P].

许仕龙 .

中国专利 :CN100359660C ,2006-08-02

[6]

等离子体刻蚀终点的检测方法 [P].

王永超 ;

孙远军 .

中国专利 :CN121096864A ,2025-12-09

[7]

刻蚀终点检测系统及方法 [P].

杨剑 ;

杨俊 ;

梁晓明 ;

冯锐 ;

朱普磊 .

中国专利 :CN118352215A ,2024-07-16

[8]

刻蚀终点检测方法及装置 [P].

常晓阳 ;

王新河 ;

林晓阳 ;

赵巍胜 .

中国专利 :CN114582699A ,2022-06-03

[9]

刻蚀终点检测方法及装置 [P].

常晓阳 ;

王新河 ;

林晓阳 ;

赵巍胜 .

中国专利 :CN114582699B ,2024-11-05

[10]

刻蚀终点检测方法及装置 [P].

常晓阳 ;

王新河 ;

林晓阳 ;

赵巍胜 .

中国专利 :CN114582700B ,2024-11-19

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