一种分离栅沟槽型MOSFET及其制备方法、芯片

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专利类型
发明
申请号
CN202311848200.8
申请日
2023-12-29
公开(公告)号
CN117497602B
公开(公告)日
2024-04-19
发明(设计)人
贺俊杰
申请人
深圳天狼芯半导体有限公司
申请人地址
518000 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区科技南路18号深圳湾科技生态园12栋裙楼904-905
IPC主分类号
H01L29/78
IPC分类号
H01L29/04 H01L29/06 H01L29/165 H01L21/336
代理机构
深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414
代理人
阳方玉
法律状态
实质审查的生效
国省代码
广东省 深圳市
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共 50 条
[1]
一种分离栅沟槽型MOSFET及其制备方法、芯片 [P]. 
贺俊杰 .
中国专利 :CN117497602A ,2024-02-02
[2]
一种分离栅沟槽MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
赵承杰 ;
周炳 .
中国专利 :CN119653805A ,2025-03-18
[3]
屏蔽栅沟槽MOSFET结构及其制备方法、芯片 [P]. 
李金耀 .
中国专利 :CN119584592B ,2025-04-18
[4]
屏蔽栅沟槽MOSFET结构及其制备方法、芯片 [P]. 
李金耀 .
中国专利 :CN119584592A ,2025-03-07
[5]
分离栅沟槽MOSFET结构及其制备方法 [P]. 
苗东铭 ;
杨世红 ;
徐永年 ;
李小红 ;
李维 ;
王章 ;
杭朝阳 .
中国专利 :CN120676680A ,2025-09-19
[6]
分离栅沟槽MOSFET器件及制备方法 [P]. 
苗东铭 ;
余远强 ;
杨世红 ;
徐永年 ;
李小红 .
中国专利 :CN117153885B ,2024-05-28
[7]
分离栅沟槽MOSFET的制造方法 [P]. 
卞铮 ;
肖魁 ;
方冬 .
中国专利 :CN114388438B ,2025-04-18
[8]
分离栅沟槽MOSFET的制造方法 [P]. 
卞铮 ;
肖魁 ;
方冬 .
中国专利 :CN114388438A ,2022-04-22
[9]
沟槽式金属栅MOSFET结构及其制备方法、芯片 [P]. 
蔡宗叡 .
中国专利 :CN121152245A ,2025-12-16
[10]
屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
余健 .
中国专利 :CN119342867B ,2025-10-24