屏蔽栅沟槽MOSFET结构及其制备方法、芯片

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510136576.9
申请日
2025-02-07
公开(公告)号
CN119584592B
公开(公告)日
2025-04-18
发明(设计)人
李金耀
申请人
深圳天狼芯半导体有限公司
申请人地址
518063 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区科技南路18号深圳湾科技生态园12栋裙楼904-905
IPC主分类号
H10D30/63
IPC分类号
H10D30/01 H10D64/27 H10D64/01 H10D62/10
代理机构
深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414
代理人
林春梅
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
广东省 深圳市
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共 50 条
[1]
屏蔽栅沟槽MOSFET结构及其制备方法、芯片 [P]. 
李金耀 .
中国专利 :CN119584592A ,2025-03-07
[2]
屏蔽栅沟槽MOSFET器件结构 [P]. 
张鹏程 ;
孟宇 .
中国专利 :CN223452327U ,2025-10-17
[3]
一种屏蔽栅沟槽MOSFET结构及其制备方法 [P]. 
高学 ;
罗杰馨 ;
柴展 ;
王贺 .
中国专利 :CN115148670A ,2022-10-04
[4]
一种屏蔽栅沟槽MOSFET结构及其制备方法 [P]. 
段双亮 ;
完颜文娟 ;
袁力鹏 ;
常虹 ;
段宝睿 .
中国专利 :CN118398500B ,2024-09-17
[5]
一种屏蔽栅沟槽MOSFET结构及其制备方法 [P]. 
段双亮 ;
完颜文娟 ;
袁力鹏 ;
常虹 ;
段宝睿 .
中国专利 :CN118398500A ,2024-07-26
[6]
屏蔽栅沟槽MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
胡嘉宁 ;
孙文镇 ;
许晨强 ;
黄子铭 ;
陶欣欣 ;
刘秀勇 .
中国专利 :CN121099634A ,2025-12-09
[7]
屏蔽栅沟槽MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
胡嘉宁 ;
孙文镇 ;
许晨强 ;
黄子铭 ;
陶欣欣 ;
刘秀勇 .
中国专利 :CN121099635A ,2025-12-09
[8]
一种新型屏蔽栅MOSFET结构及其制备方法、芯片 [P]. 
李金耀 .
中国专利 :CN119584593A ,2025-03-07
[9]
一种新型屏蔽栅MOSFET结构及其制备方法、芯片 [P]. 
李金耀 .
中国专利 :CN119584593B ,2025-07-01
[10]
屏蔽栅沟槽MOSFET [P]. 
蒋容 ;
肖胜安 .
中国专利 :CN111223930A ,2020-06-02