一种新型屏蔽栅MOSFET结构及其制备方法、芯片

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510136685.0
申请日
2025-02-07
公开(公告)号
CN119584593A
公开(公告)日
2025-03-07
发明(设计)人
李金耀
申请人
深圳天狼芯半导体有限公司
申请人地址
518063 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区科技南路18号深圳湾科技生态园12栋裙楼904-905
IPC主分类号
H10D30/63
IPC分类号
H10D30/01 H10D64/27 H10D64/01 H10D62/10
代理机构
深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414
代理人
林春梅
法律状态
实质审查的生效
国省代码
广东省 深圳市
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共 50 条
[1]
一种新型屏蔽栅MOSFET结构及其制备方法、芯片 [P]. 
李金耀 .
中国专利 :CN119584593B ,2025-07-01
[2]
屏蔽栅沟槽MOSFET结构及其制备方法、芯片 [P]. 
李金耀 .
中国专利 :CN119584592B ,2025-04-18
[3]
屏蔽栅沟槽MOSFET结构及其制备方法、芯片 [P]. 
李金耀 .
中国专利 :CN119584592A ,2025-03-07
[4]
屏蔽栅超结MOSFET及其制备方法、芯片 [P]. 
张婷 .
中国专利 :CN117673164B ,2024-08-16
[5]
屏蔽栅超结MOSFET及其制备方法、芯片 [P]. 
张婷 .
中国专利 :CN117673164A ,2024-03-08
[6]
低压屏蔽栅MOSFET及其制备方法、芯片 [P]. 
刘涛 .
中国专利 :CN117855282B ,2024-05-24
[7]
低压屏蔽栅MOSFET及其制备方法、芯片 [P]. 
刘涛 .
中国专利 :CN117855282A ,2024-04-09
[8]
一种屏蔽栅MOSFET的制备方法及屏蔽栅MOSFET [P]. 
谭键文 ;
马万里 .
中国专利 :CN119947186A ,2025-05-06
[9]
一种屏蔽栅MOSFET器件结构及制备方法 [P]. 
完颜文娟 ;
杨科 ;
常虹 ;
苏毅 ;
袁力鹏 .
中国专利 :CN115084272B ,2022-09-20
[10]
一种屏蔽栅沟槽结构、屏蔽栅沟槽MOSFET [P]. 
孙健 ;
其他发明人请求不公开姓名 .
中国专利 :CN215266310U ,2021-12-21