一种无液电化学研磨/电化学机械抛光的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410088967.3

申请日：

2024-01-22

公开(公告)号：

CN117754365A

公开(公告)日：

2024-03-26

发明(设计)人：

吴頔

申请人：

贵州大学

申请人地址：

550000 贵州省贵阳市花溪区

IPC主分类号：

B24B1/00

IPC分类号：

代理机构：

大连东方专利代理有限责任公司 21212

代理人：

赵淑梅;李馨

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

贵州省贵阳市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-04-12	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 1/00申请日:20240122
2024-03-26	公开	公开

共 50 条

[1]

一种电化学机械抛光方法 [P].

杨亮 ;

王磊 ;

左晓磊 ;

张康 ;

李婷 .

中国专利 :CN117943966A ,2024-04-30

[2]

电化学机械抛光装置 [P].

倪建明 .

中国专利 :CN105710761A ,2016-06-29

[3]

一种半导体硅片电化学机械抛光方法 [P].

阚开乐 ;

张茂亮 .

中国专利 :CN119121368B ,2025-02-18

[4]

一种半导体硅片电化学机械抛光方法 [P].

阚开乐 ;

张茂亮 .

中国专利 :CN119121368A ,2024-12-13

[5]

用于电化学机械抛光的抛光垫 [P].

J·G·埃米恩 ;

D·B·詹姆斯 .

中国专利 :CN100385631C ,2005-11-30

[6]

用于电化学机械抛光的抛光垫 [P].

罗兰·K·塞维利亚 .

中国专利 :CN1809445A ,2006-07-26

[7]

一种电化学机械抛光装置 [P].

左晓磊 ;

王磊 ;

张康 ;

刘永进 ;

李婷 .

中国专利 :CN117568908A ,2024-02-20

[8]

用于电化学机械抛光的抛光垫 [P].

李·M.·库克 ;

戴维·B.·詹姆斯 ;

约翰·V.·H·罗伯兹 .

中国专利 :CN100347825C ,2005-09-07

[9]

一种电化学机械抛光设备 [P].

吴尚东 ;

史霄 ;

刘福强 ;

尹影 ;

李婷 .

中国专利 :CN119077609A ,2024-12-06

[10]

一种电化学机械抛光头及抛光装置 [P].

王子睿 ;

王永光 ;

刘庆升 ;

丁钊 ;

朱睿 ;

成锋 ;

师晓曼 ;

彭超 .

中国专利 :CN116423384B ,2024-06-21

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