硅基锗锡厚膜的生长方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410123476.8
申请日
2024-01-29
公开(公告)号
CN118007241A
公开(公告)日
2024-05-10
发明(设计)人
崔金来 郑军 吴亦旸 贺晨 刘香全 黄秦兴 刘智 左玉华 成步文
申请人
中国科学院半导体研究所
申请人地址
100083 北京市海淀区清华东路甲35号
IPC主分类号
C30B29/52
IPC分类号
C30B23/02 H01L21/02 H01L21/324
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
肖慧
法律状态
公开
国省代码
北京市
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共 50 条
[1]
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[3]
一种锗硅外延层生长方法 [P]. 
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[9]
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[10]
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