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晶圆切割方法及晶粒
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410115969.7
申请日
:
2024-01-29
公开(公告)号
:
CN117995773A
公开(公告)日
:
2024-05-07
发明(设计)人
:
何腾腾
张正鸿
申请人
:
厦门通富微电子有限公司
申请人地址
:
361012 福建省厦门市自由贸易试验区厦门片区建港路29号海沧国际物流大厦10楼1001单元F0193
IPC主分类号
:
H01L21/78
IPC分类号
:
H01L21/683
代理机构
:
北京中知法苑知识产权代理有限公司 11226
代理人
:
张玉艳
法律状态
:
公开
国省代码
:
福建省 厦门市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-05-07
公开
公开
2024-05-24
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/78申请日:20240129
共 50 条
[21]
晶圆辅助切割装置及晶圆压膜机
[P].
韩佳伟
论文数:
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韩佳伟
;
孔跃春
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孔跃春
;
任宏志
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任宏志
.
中国专利
:CN216992110U
,2022-07-19
[22]
晶圆边缘曝光系统及方法
[P].
崔栽荣
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
崔栽荣
;
贺晓彬
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
贺晓彬
;
杨涛
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
杨涛
;
刘金彪
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
刘金彪
;
李亭亭
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
李亭亭
.
中国专利
:CN114355731B
,2024-07-02
[23]
晶圆边缘曝光系统及方法
[P].
崔栽荣
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崔栽荣
;
贺晓彬
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贺晓彬
;
杨涛
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杨涛
;
刘金彪
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刘金彪
;
李亭亭
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李亭亭
.
中国专利
:CN114355731A
,2022-04-15
[24]
晶圆切割工艺
[P].
沈珏玮
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沈珏玮
;
李荣
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李荣
.
中国专利
:CN109545678B
,2019-03-29
[25]
晶圆的处理方法
[P].
张成根
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张成根
;
林锺吉
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林锺吉
;
金在植
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金在植
;
贺晓彬
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贺晓彬
;
丁明正
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丁明正
;
杨涛
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杨涛
;
李俊峰
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李俊峰
;
王文武
论文数:
0
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0
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王文武
.
中国专利
:CN113517176A
,2021-10-19
[26]
MEMS晶圆的切割方法
[P].
周晔
论文数:
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周晔
;
王琳琳
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王琳琳
;
刘政谚
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刘政谚
;
刘雨微
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刘雨微
;
孟珍奎
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孟珍奎
.
中国专利
:CN106006547A
,2016-10-12
[27]
晶圆结构的制作方法及晶圆结构
[P].
刘良
论文数:
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刘良
;
柳会雄
论文数:
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柳会雄
.
中国专利
:CN105826241A
,2016-08-03
[28]
晶圆的处理方法和晶圆
[P].
程子超
论文数:
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机构:
昕原半导体(上海)有限公司
昕原半导体(上海)有限公司
程子超
;
陈亮
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机构:
昕原半导体(上海)有限公司
昕原半导体(上海)有限公司
陈亮
;
杨芸
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机构:
昕原半导体(上海)有限公司
昕原半导体(上海)有限公司
杨芸
.
中国专利
:CN120109005A
,2025-06-06
[29]
晶圆边缘倒角切割清洗方法及切割清洗装置
[P].
谢柏弘
论文数:
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机构:
深圳市和科达半导体设备有限公司
深圳市和科达半导体设备有限公司
谢柏弘
;
何若飞
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机构:
深圳市和科达半导体设备有限公司
深圳市和科达半导体设备有限公司
何若飞
;
赖建华
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机构:
深圳市和科达半导体设备有限公司
深圳市和科达半导体设备有限公司
赖建华
;
陈伯诚
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机构:
深圳市和科达半导体设备有限公司
深圳市和科达半导体设备有限公司
陈伯诚
.
中国专利
:CN119601462A
,2025-03-11
[30]
晶圆边缘倒角切割清洗方法及切割清洗装置
[P].
谢柏弘
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机构:
深圳市和科达半导体设备有限公司
深圳市和科达半导体设备有限公司
谢柏弘
;
何若飞
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机构:
深圳市和科达半导体设备有限公司
深圳市和科达半导体设备有限公司
何若飞
;
赖建华
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机构:
深圳市和科达半导体设备有限公司
深圳市和科达半导体设备有限公司
赖建华
;
陈伯诚
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机构:
深圳市和科达半导体设备有限公司
深圳市和科达半导体设备有限公司
陈伯诚
.
中国专利
:CN119601462B
,2025-09-09
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