一种半导体设备真空腔体静电吸盘清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310623786.1

申请日：

2023-05-30

公开(公告)号：

CN117415091A

公开(公告)日：

2024-01-19

发明(设计)人：

薛弘宇顾仁宝朱翔鸣李伟东朱文健靳普云韩伟男白晓天张牧徐钰虹顾鹏铭

申请人：

江苏凯威特斯半导体科技有限公司

申请人地址：

214000 江苏省无锡市锡山经济技术开发区团结路31号

IPC主分类号：

B08B5/02

IPC分类号：

B08B1/14 B08B3/08 B08B3/04 B08B3/02 H01L21/683 H01L21/67

代理机构：

无锡权正知识产权代理事务所(普通合伙) 32735

代理人：

王俊峰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-02-06	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B08B 5/02申请日:20230530
2024-01-19	公开	公开

共 50 条

[1]

真空腔体及半导体设备 [P].

宋伟健 ;

高智伟 ;

母凤文 ;

谭向虎 ;

刘福超 .

中国专利 :CN223409704U ,2025-10-03

[2]

一种半导体设备用真空腔体 [P].

郑丹 ;

刘方 ;

于粘粘 .

中国专利 :CN221947106U ,2024-11-01

[3]

一种真空腔体密封结构和半导体设备 [P].

王正根 ;

陈刚 .

中国专利 :CN221170766U ,2024-06-18

[4]

一种半导体设备真空腔体密封门装置 [P].

佘鹏程 ;

程文进 ;

彭华东 ;

范江华 ;

龚俊 .

中国专利 :CN112746799A ,2021-05-04

[5]

静电吸盘及半导体设备 [P].

凌庆泽 ;

林子豪 .

中国专利 :CN119480756A ,2025-02-18

[6]

半导体刻蚀工艺真空腔体设备及刻蚀方法 [P].

江新泽 ;

胡旭峰 .

中国专利 :CN109616405A ,2019-04-12

[7]

一种半导体清洗腔体及半导体设备 [P].

杨仕品 .

中国专利 :CN117855111B ,2024-05-07

[8]

一种半导体清洗腔体及半导体设备 [P].

杨仕品 .

中国专利 :CN117855111A ,2024-04-09

[9]

一种静电吸盘控制方法、静电吸盘及半导体加工设备 [P].

向浪 ;

王兆祥 ;

梁洁 ;

李可 ;

涂乐义 .

中国专利 :CN117954370A ,2024-04-30

[10]

一种静电吸盘控制方法、静电吸盘及半导体加工设备 [P].

向浪 ;

王兆祥 ;

梁洁 ;

李可 ;

涂乐义 .

中国专利 :CN117954370B ,2024-06-25

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