掩模衬底的抛光方法及抛光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311756751.1

申请日：

2023-12-19

公开(公告)号：

CN117484380A

公开(公告)日：

2024-02-02

发明(设计)人：

任雨萌季明华高世栋

申请人：

上海传芯半导体有限公司

申请人地址：

200000 上海市浦东新区临港新片区沧海路2685号

IPC主分类号：

B24B37/10

IPC分类号：

B24B37/04 B24B1/00 C09G1/16

代理机构：

上海思捷知识产权代理有限公司 31295

代理人：

闫学文

法律状态：

公开

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-02-02	公开	公开
2024-02-23	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/10申请日:20231219

共 50 条

[1]

抛光系统及抛光方法 [P].

梁焰 ;

岳兴 ;

李安庭 .

中国专利 :CN112872916A ,2021-06-01

[2]

抛光方法及抛光系统 [P].

林岳明 .

中国专利 :CN117891138A ,2024-04-16

[3]

抛光方法及抛光系统 [P].

何昆哲 .

中国专利 :CN120901836A ,2025-11-07

[4]

抛光盘及抛光系统 [P].

侯晶 ;

许乔 ;

刘世伟 ;

陈贤华 ;

王健 ;

李洁 ;

钟波 .

中国专利 :CN211220041U ,2020-08-11

[5]

抛光盘及抛光系统 [P].

侯晶 ;

许乔 ;

刘世伟 ;

陈贤华 ;

王健 ;

李洁 ;

钟波 .

中国专利 :CN110788699B ,2024-09-20

[6]

抛光盘及抛光系统 [P].

侯晶 ;

许乔 ;

刘世伟 ;

陈贤华 ;

王健 ;

李洁 ;

钟波 .

中国专利 :CN110788699A ,2020-02-14

[7]

抛光系统和抛光方法 [P].

林士琦 ;

吴坤泰 ;

周友华 ;

李志聪 ;

洪敏皓 ;

吴志仁 ;

黄振铭 ;

黃循康 ;

詹金祥 ;

杨智渊 .

中国专利 :CN103846770A ,2014-06-11

[8]

基底抛光系统及基底抛光方法 [P].

赵玹辰 ;

裴俊和 ;

秋秉权 ;

姜秉薰 ;

千俊赫 ;

崔贞惠 ;

丁荣镐 ;

曹雨辰 .

中国专利 :CN107717713A ,2018-02-23

[9]

抛光系统的抛光垫 [P].

闵庚勳 ;

林云勳 ;

李大渊 ;

宋在翊 ;

朴寿讃 .

中国专利 :CN103079767A ,2013-05-01

[10]

抛光工具、抛光系统和抛光方法 [P].

S·松佐尼 .

:CN118234596A ,2024-06-21

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