学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
单面抛光方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080032295.4
申请日
:
2020-03-10
公开(公告)号
:
CN113766994B
公开(公告)日
:
2024-03-08
发明(设计)人
:
铃木健汰
大关正彬
申请人
:
信越半导体株式会社
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
B24B37/015
IPC分类号
:
B24B37/12
B24B49/14
H01L21/304
代理机构
:
北京路浩知识产权代理有限公司 11002
代理人
:
张晶;谢顺星
法律状态
:
授权
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-03-08
授权
授权
共 50 条
[1]
单面抛光方法
[P].
铃木健汰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
铃木健汰
;
大关正彬
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
大关正彬
.
中国专利
:CN113766994A
,2021-12-07
[2]
晶片的单面抛光方法
[P].
杉森胜久
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杉森胜久
;
小佐佐和明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
小佐佐和明
;
佐藤洋三
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐藤洋三
.
中国专利
:CN110181390A
,2019-08-30
[3]
单面抛光装置及方法
[P].
郭宇轩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
郭宇轩
.
中国专利
:CN112405305A
,2021-02-26
[4]
晶圆单面抛光装置
[P].
陈琳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈琳
.
中国专利
:CN209681857U
,2019-11-26
[5]
晶圆单面抛光装置
[P].
韦荣
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
韦荣
.
中国专利
:CN206464991U
,2017-09-05
[6]
单面抛光装置及方法
[P].
郭宇轩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
郭宇轩
.
中国专利
:CN112428138B
,2021-03-02
[7]
一种真空镀膜工艺中硅片单面抛光装置及单面抛光方法
[P].
伍志军
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
伍志军
.
中国专利
:CN111230727A
,2020-06-05
[8]
一种真空镀膜工艺中硅片单面抛光装置及单面抛光方法
[P].
伍志军
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
苏州赛森电子科技有限公司
苏州赛森电子科技有限公司
伍志军
.
中国专利
:CN111230727B
,2024-08-02
[9]
单面抛光设备
[P].
邵晓东
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
邵晓东
.
中国专利
:CN218194446U
,2023-01-03
[10]
一种单面抛光方法
[P].
万松博
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
万松博
;
王栩生
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王栩生
;
章灵军
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
章灵军
.
中国专利
:CN103872183A
,2014-06-18
←
1
2
3
4
5
→