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新規スルホン酸誘導体化合物、光酸発生剤、カチオン重合開始剤、レジスト組成物およびカチオン重合性組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140549869
申请日
:
2013-11-27
公开(公告)号
:
JPWO2014084269A1
公开(公告)日
:
2017-01-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07D221/14
IPC分类号
:
C09K3/00
G03F7/004
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
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法律状态信息
共 50 条
[1]
新規スルホン酸誘導体化合物、光酸発生剤、カチオン重合開始剤、レジスト組成物およびカチオン重合性組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6211001B2
,2017-10-11
[2]
スルホン酸誘導体化合物、光酸発生剤、レジスト組成物、カチオン重合開始剤、およびカチオン重合性組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6274655B2
,2018-02-07
[3]
オキシムスルホネート化合物、光酸発生剤、レジスト組成物、カチオン重合開始剤、およびカチオン重合性組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6605820B2
,2019-11-13
[4]
塩化合物、カチオン重合開始剤およびカチオン重合性組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009057600A1
,2011-03-10
[5]
カチオン重合性組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015005210A1
,2017-03-02
[6]
カチオン重合性組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015005211A1
,2017-03-02
[7]
カチオン重合開始剤、硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014061420A1
,2016-09-05
[8]
カチオン重合性レジスト下層膜形成組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016158509A1
,2018-01-25
[9]
カチオン重合性樹脂組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005061583A1
,2007-07-12
[10]
化合物、カチオン硬化剤、及びカチオン硬化性組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7009201B2
,2022-02-10
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